特許
J-GLOBAL ID：200903015736108367
真空処理室、プラズマディスプレイ装置の製造装置及びプラズマディスプレイ装置の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-133430
公開番号（公開出願番号）：特開2001-319572
出願日： 2000年05月02日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：
【要約】【課題】プラズマディスプレイの製造技術において、スループットの向上が可能になる技術を提供する。【解決手段】本発明のプラズマディスプレイ装置の製造装置1はアライメント封着室6を有している。アライメント封着室6は位置合わせ機構の他に加熱機構を有しており、位置合わせが終了した後にフロントパネル及びリアパネルを加熱して封着することができ、位置合わせ工程と封着工程とを一つの処理室で行うことができる。従って、位置合わせが終了した一組のパネルをクリップで仮留めし、封着室へ搬送する必要があった従来に比して、工程数を削減することができる。
請求項（抜粋）：
真空槽と、前記真空槽内に配置されたパネル保持機構とを有し、前記パネル保持機構は、プラズマディスプレイ装置を構成する二枚のパネルを、前記パネルの表面が互いに対向した状態で水平に配置し、前記パネルの相対的な位置合わせができるように構成されたパネル保持機構とを有する真空処理室であって、前記パネル保持機構は、上側のパネル保持台と、下側のパネル保持台を有し、各パネル保持台は、それぞれが前記パネルを密着保持できるように構成され、前記パネル保持台には、加熱機構が設けられ、前記加熱機構は前記パネルを密着保持した状態で、熱伝導により前記パネルを加熱することができるように構成されたことを特徴とする真空処理室。
IPC (3件)：
H01J 9/26
, H01J 9/46
, H01J 11/02
H01J 9/26 A
, H01J 9/46 A
, H01J 11/02 D
5C012AA09
, 5C012BC03
, 5C012BC04
, 5C012PP08
, 5C012PP10
, 5C040FA01
, 5C040GB03
, 5C040GB14
, 5C040HA01
, 5C040HA04
, 5C040MA26
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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