特許
J-GLOBAL ID:200903092902346233
ガス放電パネルの製造方法およびガス放電パネル
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
森本 義弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-242730
公開番号(公開出願番号):特開2000-076989
出願日: 1998年08月28日
公開日(公表日): 2000年03月14日
要約:
【要約】【課題】 放電特性の良好な優れた表示品位を実現するガス放電パネルと、そのパネルを安定して製造することを実現する製造方法を提供する。【解決手段】 誘電体層2と保護層3が形成された基板4を、酸素を含む雰囲気中において紫外線照射を行い、保護層3の表面改質を行う。また、保護層3の表面改質を行う際には真空チャンバ18の減圧雰囲気で実施する。
請求項(抜粋):
誘電体層と保護層が形成された基板を用いてガス放電パネルを製造するに際し、酸素を含む雰囲気中において前記基板に紫外線照射を行って前記保護層の表面改質を行うガス放電パネルの製造方法。
IPC (3件):
H01J 9/02
, G09F 9/313
, H01J 11/02
FI (3件):
H01J 9/02 F
, G09F 9/313 Z
, H01J 11/02 B
Fターム (16件):
5C027AA05
, 5C040AA02
, 5C040AA04
, 5C040DD11
, 5C094AA03
, 5C094AA42
, 5C094AA43
, 5C094AA55
, 5C094BA31
, 5C094BA32
, 5C094CA19
, 5C094DA13
, 5C094DA15
, 5C094FB02
, 5C094FB15
, 5C094GB10
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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