特許
J-GLOBAL ID:200903015872827636
不均一系触媒を用いた酢酸の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (11件):
岡部 正夫
, 加藤 伸晃
, 産形 和央
, 臼井 伸一
, 藤野 育男
, 越智 隆夫
, 本宮 照久
, 高梨 憲通
, 朝日 伸光
, 高橋 誠一郎
, 吉澤 弘司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-067896
公開番号(公開出願番号):特開2004-277297
出願日: 2003年03月13日
公開日(公表日): 2004年10月07日
要約:
【課題】本発明は、気泡塔型反応器を用いて不均一系触媒反応によって酢酸を製造する方法において、高触媒濃度で反応を行なう方法を提供することを目的とする。【解決手段】気泡塔型反応器を用いて不均一系触媒反応によって一酸化炭素(CO)でメタノールをカルボニル化して酢酸を製造する方法において、固体触媒濃度を反応容積あたり100kg/m3以上、反応器内の一酸化炭素分圧を1.0〜2.5MPaの範囲、一酸化炭素の排出率を理論反応量の3〜15%、かつ、液空塔速度を0.2〜1.0m/secとする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
気泡塔型反応器を用いて不均一系触媒反応によって一酸化炭素(CO)でメタノールをカルボニル化して酢酸を製造する方法において、固体触媒濃度が反応容積あたり100kg/m3以上であり、反応器内の一酸化炭素分圧が1.0〜2.5MPaの範囲であり、一酸化炭素の排出率が理論反応量の3〜15%であり、かつ、液空塔速度が0.2〜1.0m/secであることを特徴とする酢酸の製造方法。
IPC (3件):
C07C51/12
, B01D3/06
, C07C53/08
FI (3件):
C07C51/12
, B01D3/06 Z
, C07C53/08
Fターム (22件):
4D076AA16
, 4D076AA22
, 4D076AA23
, 4D076AA24
, 4D076BB18
, 4D076FA02
, 4D076FA12
, 4D076HA11
, 4D076JA02
, 4H006AA02
, 4H006AC46
, 4H006AD11
, 4H006BA24
, 4H006BA49
, 4H006BA55
, 4H006BB17
, 4H006BC11
, 4H006BC18
, 4H006BE40
, 4H006BS10
, 4H039CA65
, 4H039CF30
引用特許:
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