特許

J-GLOBAL ID：200903015935022242

基板搬送装置および基板搬送方法ならびに真空処理装置

発明者： 中山 秀樹
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-146815
公開番号（公開出願番号）：特開2005-019967
出願日： 2004年05月17日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】高さ方向の設置スペースを増大させることなく、水平方向の搬送距離を長くすることができる基板搬送装置を提供すること。【解決手段】 ベースプレート71および複数のスライドプレート72〜74を積層した多段スライド式の基板搬送装置70において、最上段のスライドプレート74に載置された基板Gの搬送動作を行うように多段に積層されたベースプレート71およびスライドプレート72〜73の各々に、高さ方向に干渉しないように交互にずらして開口部71bおよび開口部72b〜73bを形成し、その内部にプーリ71c,プーリ72c〜73cおよびベルト71d,ベルト72d〜73d等のスライド駆動機構部を収容した構成とした。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板が載置される支持台と、前記支持台の下部に配置された一つまたはスライド可能に積層してなる複数の板状アームと、前記板状アームにそれぞれ設けられ当該板状アームの上側に位置する前記支持台または前記板状アームをスライドさせるアーム駆動機構とを具備し、前記支持台および前記板状アームを縮退した状態と伸長した状態との間で変化させることにより、第1位置と第2位置との間で前記基板の搬送動作が行われ、前記各板状アームは、その中に前記アーム駆動機構が収容される開口部を有することを特徴とする基板搬送装置。

IPC (2件)：

H01L21/68 ,  B65G49/07

FI (2件)：

H01L21/68 A ,  B65G49/07 D

Fターム (12件)：

5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA43 ,  5F031LA13 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA32 ,  5F031PA18 ,  5F031PA30

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 半導体処理用の搬送装置及び収容装置、並びに半導体処理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-264261   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (4件)

• 多段スライドアーム装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-125621   出願人：タツモ株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-164465   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平1-246085
  
• 特開平1-246085