特許
J-GLOBAL ID：200903016020809620

反射防止フィルムの製造方法及び反射防止フィルム

発明者：
中野 真也

中野 真也 について

, 
山田 敦

山田 敦 について

, 
高田 勝則

高田 勝則 について


出願人/特許権者：
日東電工株式会社

日東電工株式会社 について


代理人 (4件)： 鈴木 崇生 ,  梶崎 弘一 ,  尾崎 雄三 ,  谷口 俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-110148
公開番号（公開出願番号）：特開2005-292646
出願日： 2004年04月02日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】 反射防止フィルムの表面に有機溶剤や薬品が付着した場合でも、積層界面で剥離することがなく、優れた耐薬品性を有する反射防止フィルムの製造方法、及び該製造方法により得られる反射防止フィルムを提供することを目的とする。また、当該反射防止フィルムが設けられている光学素子を提供することを目的とする。さらに、当該反射防止フィルム又は光学素子が装着されている画像表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】 透明基材フィルムの片面に直接又は他の層を介して設けた高屈折率ハードコート層の表面に放電及び/又は放射線照射処理を施す表面改質工程、表面改質した高屈折率ハードコート層上に低屈折率層を設けて積層フィルムを形成する工程、積層フィルムに加熱処理、湿熱処理、及び水浸漬処理からなる群より選択される少なくとも1種の加工処理を施す加工処理工程を含むことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
透明基材フィルムの片面に直接又は他の層を介して設けた高屈折率ハードコート層の表面に放電及び/又は放射線照射処理を施す表面改質工程、表面改質した高屈折率ハードコート層上に低屈折率層を設けて積層フィルムを形成する工程、積層フィルムに加熱処理、湿熱処理、及び水浸漬処理からなる群より選択される少なくとも1種の加工処理を施す加工処理工程を含むことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
IPC (6件)：
G02B1/11 ,  B32B7/02 ,  G02B1/10 ,  G02B5/30 ,  H05B33/02 ,  H05B33/14
FI (6件)：
G02B1/10 A ,  B32B7/02 103 ,  G02B5/30 ,  H05B33/02 ,  H05B33/14 A ,  G02B1/10 Z
Fターム (43件)：
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BB51 ,  2H049BB65 ,  2K009AA02 ,  2K009AA15 ,  2K009BB28 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009DD06 ,  2K009DD17 ,  3K007AB17 ,  3K007BB06 ,  3K007DB03 ,  4F100AA17B ,  4F100AA17H ,  4F100AB01B ,  4F100AB01H ,  4F100AH05C ,  4F100AH06C ,  4F100AK01B ,  4F100AK52C ,  4F100AR00C ,  4F100AR00D ,  4F100AT00A ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100DE01B ,  4F100DE01H ,  4F100EH46 ,  4F100EJ52 ,  4F100GB41 ,  4F100JB14B ,  4F100JG01D ,  4F100JK12B ,  4F100JL06 ,  4F100JN01A ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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