特許
J-GLOBAL ID：200903016088406183
ナノインプリント方法及びナノインプリント装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-103187
公開番号（公開出願番号）：特開2007-281072
出願日： 2006年04月04日
公開日（公表日）： 2007年10月25日
要約：
【課題】 本発明は、高精度に位置合わせ可能なナノインプリント方法及びナノインプリント装置を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明のナノインプリント方法及びナノインプリント装置は、型材と樹脂とを接触させない状態で型材と基板との位置合わせを行うと共に、第1の検出手段で検出可能な基板上のアライメントマークと、第2の検出手段で検出可能な型材上のアライメントマークとの相対的な位置情報を取得、記録し、型材を樹脂に接触させた状態で、第1の検出手段で検出可能な基板上のアライメントマークと第2の検出手段で検出可能な型材上のアライメントマークとの相対的な位置情報を基に、第1、第2の検出手段を用いて各アライメントマークの検出を行うことにより、型材と基板との位置合わせを行う。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
1つの面にパターンが形成されたパターン転写領域を有する型材を用いて、基板上に塗布された未硬化の硬化型樹脂に、前記型材のパターン転写領域を有する面を押し付けた状態で、前記樹脂を硬化させて、前記樹脂に前記パターンを転写させるナノインプリント方法において、
前記型材のパターン転写領域を有する面上であって、パターン転写領域以外の領域に設けられた第1のアライメントマーク及び第2のアライメントマークと、
前記基板上に設けられた第3のアライメントマークと、
前記第1のアライメントマーク及び前記第3のアライメントマークを共に検出可能な第1の検出手段と、
前記第2のアライメントマークを検出可能な第2の検出手段と、
前記第1の検出手段によって検出される前記第3のアライメントマークと前記第2の検出手段によって検出される前記第2のアライメントマークとの相対的な位置情報を記憶可能な記憶手段と、
を用い、
前記型材と前記樹脂を接触させずに、前記第1の検出手段による前記第1のアライメントマーク及び前記第3のアライメントマークの検出によって前記型材と前記基板との位置合わせがなされた状態で、前記第2の検出手段により前記第2のアライメントマークを検出して、前記第3のアライメントマークと前記第2のアライメントマークとの相対的な位置情報を取得し、前記記憶手段に記憶する工程と、
前記第2のアライメントマーク上に前記樹脂を満たさないように前記型材と前記樹脂を接触させた状態で、前記記憶手段に記憶された前記第3のアライメントマークと前記第2のアライメントマークとの相対的な位置情報を基に、前記第1の検出手段による前記第3のアライメントマークの検出及び前記第2の検出手段による前記第2のアライメントマークの検出を行うことにより、前記型材と前記基板との位置合わせを行う工程と、
を有することを特徴とするナノインプリント方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, B82B 3/00
, B81C 5/00
, B29C 59/02
H01L21/30 502D
, B82B3/00
, B81C5/00
, B29C59/02 Z
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AP06
, 4F209AR07
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN09
, 4F209PN13
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
, 5F046EB01
, 5F046EB02
, 5F046ED01
