ヒ素含有水の処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：内山充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-088936
公開番号（公開出願番号）：特開2003-285078
出願日： 2002年03月27日
公開日（公表日）： 2003年10月07日
要約：

【要約】【課題】ヒ素と、有機物などを含むヒ素含有水からヒ素を効率よく除去することができ、さらには汚泥の沈降性及び脱水性がよい上、処理コストの低いヒ素含有水の処理方法を提供する。【解決手段】(A)ヒ素含有水を第一鉄イオンの存在下でpH6未満に調整する工程、(B)該(A)工程でpH調整されたヒ素含有水を酸素含有ガスで曝気して第二鉄を生成させる工程、(C)該(B)工程で処理後のヒ素含有水をpH6以上に調整する工程、及び(D)該(C)工程でpH調整後のヒ素含有水を固液分離する工程、さらに場合により(E)該(D)工程で分離された汚泥にアルカリ剤を添加して、これを(C)工程に返送する工程を含むヒ素含有水の処理方法である。

請求項（抜粋）：

ヒ素含有水からヒ素を除去する方法において、(A)該ヒ素含有水を第一鉄イオンの存在下でpH6未満に調整する工程、(B)該(A)工程でpH調整されたヒ素含有水を酸素含有ガスで曝気して第二鉄を生成させる工程、(C)該(B)工程で曝気処理後のヒ素含有水をpH6以上に調整する工程、及び(D)該(C)工程でpH調整後のヒ素含有水を固液分離する工程を含むことを特徴とするヒ素含有水の処理方法。

IPC (2件)：

C02F 1/62 , C02F 1/52 ZAB

FI (2件)：

C02F 1/62 A , C02F 1/52 ZAB K

Fターム (27件)：

4D015BA04 , 4D015BA19 , 4D015BA21 , 4D015BB09 , 4D015BB12 , 4D015CA17 , 4D015DA16 , 4D015DB02 , 4D015DB07 , 4D015DB08 , 4D015DC08 , 4D015EA14 , 4D015EA15 , 4D015EA16 , 4D015EA18 , 4D015EA19 , 4D015EA32 , 4D015FA01 , 4D015FA03 , 4D015FA28 , 4D038AA08 , 4D038AB70 , 4D038AB82 , 4D038BA04 , 4D038BA06 , 4D038BB13 , 4D038BB18

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開昭58-040191
特開昭63-278593
特公平1-030555

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