特許
J-GLOBAL ID：200903016175941753
平面ディスプレイパネルの製造方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-339627
公開番号（公開出願番号）：特開平10-177844
出願日： 1996年12月19日
公開日（公表日）： 1998年06月30日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】TFTやPDPなどの平面ディスプレイ・パネルの製造において、欠陥の異常発生を抑制し、欠陥基板に対しては効率良く検査・修正を施し歩留まりを向上させ低コスト化を実現する製造方法を提供する。【解決手段】複数の配線パターンを基板上に並設形成する配線パターン形成工程44と、該基板上に並設形成された複数の配線パターンの各々について導通試験を行ない断線または短絡の欠陥の有無と欠陥が存在する配線パターンを特定する第一の検査工程51とこの検査工程で特定された配線パターン上に存在する欠陥の位置座標を算出する第二の検査工程52と、この検査工程で算出された欠陥の位置座標に基いて該欠陥が存在する領域を光学系の視野内に位置付けし、前記領域の所望の個所に前記光学系によりレーザ光束を照射して前記欠陥を修正し、これを確認する修正工程53とを有する。
請求項（抜粋）：
複数の配線パターンを基板上に並設形成する配線パターン形成工程と、該配線パターン形成工程から搬入される基板について、該基板上に並設形成された複数の配線パターンの各々について導通試験をすることによって断線または短絡の欠陥が存在するか否かと欠陥が存在する配線パターンを特定する第一の検査工程と、該第一の検査工程から搬入される基板について、前記第一の検査工程で特定された配線パターンについてのみ該配線パターン上に存在する欠陥の位置座標を算出する第二の検査工程と、該第二の検査工程から搬入される基板について、前記第二の検査工程で算出された欠陥の位置座標に基いて該欠陥が存在する領域を光学系の視野内に位置付けし、該位置付けされた光学系で撮像される画像信号に基いて設定される前記領域の所望の個所に前記光学系によりレーザ光束を照射して前記欠陥を修正する修正工程とを有することを特徴とする平面ディスプレイパネルの製造方法。
IPC (6件)：
H01J 9/42
, G01N 21/88
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, G02F 1/136 500
, H01J 9/02
H01J 9/42 A
, G01N 21/88 F
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, G02F 1/136 500
, H01J 9/02 F
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (2件)
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