特許
J-GLOBAL ID:200903016298495510
基板処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-324207
公開番号(公開出願番号):特開2005-093653
出願日: 2003年09月17日
公開日(公表日): 2005年04月07日
要約:
【課題】各処理部や搬送ロボットを的確に制御することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置の制御システムを、メインコントローラMC、セルコントローラCC、ユニットコントローラUCの3階層からなる階層構造としている。第1階層のメインコントローラMCは、装置全体に1つ設けられており、装置全体の管理、メインパネルの管理およびセルコントローラCCの管理を主に担当する。第2階層のセルコントローラCCはセルごとに設けられ、対応するセル内の搬送ロボットの管理および該搬送ロボットが搬送を担当する処理部の動作の管理を主に担当する。第3階層のユニットコントローラUCは、処理部を個別に直接管理する。このようにして各コントローラの制御負荷を分散して軽減し、各コントローラの負担が過度に増大することを抑制し、処理部や搬送ロボットを的確に制御することができる。【選択図】図7
請求項(抜粋):
それぞれが基板に所定の処理を行う複数の処理部と、前記複数の処理部に対して基板を搬送する複数の搬送ロボットとを備える基板処理装置であって、
装置全体を管理するメインコントローラと、
前記複数の処理部を個別に管理する処理部コントローラと、
前記複数の搬送ロボットのそれぞれおよび該搬送ロボットが搬送を担当する処理部の動作を管理する中間コントローラと、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件):
H01L21/02
, H01L21/027
, H01L21/68
FI (3件):
H01L21/02 Z
, H01L21/68 A
, H01L21/30 562
Fターム (30件):
5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031DA01
, 5F031DA08
, 5F031EA14
, 5F031FA01
, 5F031FA02
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA43
, 5F031GA47
, 5F031GA48
, 5F031GA49
, 5F031HA13
, 5F031HA37
, 5F031HA38
, 5F031HA48
, 5F031HA59
, 5F031JA22
, 5F031MA23
, 5F031MA24
, 5F031MA26
, 5F031MA27
, 5F031PA02
, 5F046CD05
, 5F046JA27
, 5F046KA10
, 5F046LA19
引用特許:
出願人引用 (1件)
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-071036
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (5件)
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