特許
J-GLOBAL ID：200903016301779630

赤外線吸収パターン形成用インキおよび赤外線吸収パターン層を有する印刷物

発明者：
田島 真治

田島 真治 について

, 
中曽根 聡

中曽根 聡 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 塩澤 寿夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-185952
公開番号（公開出願番号）：特開平9-031382
出願日： 1995年07月21日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：
【要約】【課題】 赤外領域にのみ吸収を持ち、可視光領域では吸収を行わない、高い赤外線吸収性を有する材料を用いて、黒色、青色、緑色、赤色、黄色等の好みの色を有するパターンを形成できるインキとこのインキを用いて形成した所望の色を呈し、かつ赤外線吸収による識別が可能なパターン層を設けた印刷物の提供。【解決手段】 イッテルビウム酸塩(但し、リン酸イッテルビウムを除く)粒子、例えば硫酸イッテルビウム粒子や酢酸イッテルビウム粒子、及び着色顔料を含有する赤外線吸収パターン形成用インキ。結晶性が高く、粒子径が0.5μm以下であるYbPO4 粒子(好ましくは、カップリング剤で表面処理されている)及び着色顔料を含有する赤外線吸収パターン形成用インキ。基材上に赤外線吸収パターン層を有する印刷物であって、前記赤外線吸収パターン層はイッテルビウム酸塩(但し、リン酸イッテルビウムを除く)粒子または結晶性が高く、粒子径が0.5μm以下であるYbPO4 粒子と着色顔料を含む上記印刷物。
請求項（抜粋）：
イッテルビウム酸塩(但し、リン酸イッテルビウムを除く)粒子及び着色顔料を含有することを特徴とする赤外線吸収パターン形成用インキ。
IPC (5件)：
C09D 11/00 PTE ,  B41J 3/01 ,  B41M 3/00 ,  C09D 11/02 PTG ,  G06K 1/12
FI (5件)：
C09D 11/00 PTE ,  B41M 3/00 Z ,  C09D 11/02 PTG ,  G06K 1/12 A ,  B41J 3/534
引用特許：
審査官引用 (4件)
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