特許
J-GLOBAL ID：200903016421442893

感光性転写材料を用いたパターン形成方法、パターニング基板及び液晶表示装置

発明者：
吉野 晴彦

吉野 晴彦 について

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児玉 知啓

児玉 知啓 について

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伊藤 英明

伊藤 英明 について

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黒木 信宏

黒木 信宏 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-244219
公開番号（公開出願番号）：特開2006-064765
出願日： 2004年08月24日
公開日（公表日）： 2006年03月09日
要約：
【課題】 画像の欠けが防止された液晶表示装置、及びこれを製造するためのパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 仮支持体上に少なくとも一層の感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程と前記露光工程との間に、前記感光性転写材料を転写した基板を加熱する基板加熱工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。また、少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性転写材料の転写工程の基板温度が120°C以上180°C以下、又はロール温度が130°C以上160°C以下又は搬送速度が1m/分以上2m/分以下であるパターン形成方法。また、熱可塑性樹脂と中間層がある場合には、前記転写工程と前記露光工程との間に、該熱可塑性樹脂層と該中間層とを除去する工程を含むパターン形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
仮支持体上に少なくとも一層の感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程と前記露光工程との間に、前記感光性転写材料を転写した基板を加熱する基板加熱工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (4件)：
G03F 7/38 ,  G02F 1/133 ,  G03F 7/004 ,  G09F 9/00
FI (4件)：
G03F7/38 501 ,  G02F1/1337 ,  G03F7/004 512 ,  G09F9/00 342Z
Fターム (32件)：
2H025AA04 ,  2H025AA14 ,  2H025AB11 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB28 ,  2H025DA40 ,  2H025EA08 ,  2H025FA01 ,  2H090HA14 ,  2H090HB13Y ,  2H090HC13 ,  2H090HD14 ,  2H090HD15 ,  2H090JA02 ,  2H090JC03 ,  2H090MB12 ,  2H096AA27 ,  2H096AA30 ,  2H096BA10 ,  2H096CA16 ,  2H096DA01 ,  2H096EA02 ,  2H096LA30 ,  5G435AA01 ,  5G435AA17 ,  5G435BB12 ,  5G435CC09 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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