特許
J-GLOBAL ID：200903016564577358
微細作業用マイクロマニピュレーション装置及び微細作業用マイクロプローブ
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
田中 宏 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-025155
公開番号（公開出願番号）：特開2000-221409
出願日： 1999年02月02日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】加工部位を正確に特定し顕微鏡画像で観察し易く、かつ最適な加工方向から極微細な試料加工処理を容易にする顕微鏡用微細作業用マイクロマニピュレーション装置及びマイクロプローブを提供する。【解決手段】X軸及びY軸方向への任意の移動が可能で、かつ顕体加工試料3の表面のB-B’軸を回転中心とする傾斜回転駆動が可能な可動ベース1の上には、X軸、Y軸及びZ軸方向への任意の移動が可能で、かつ顕微鏡10の光軸A-A’を回転中心とした回転駆動が可能な、顕体加工試料3載置用顕体加工試料ステージ2が設置され、更にマニピュレータベース支持体4を介してマニピュレータ駆動ユニット7を載置した、顕微鏡10の光軸A-A’を中心として回転駆動が可能なマニピュレータベース5が設置されていることを特徴とする微細作業用マイクロマニピュレーション装置であり、マニピュレータ駆動ユニットの先端には微細加工用のプローブが取り付けられている。
請求項（抜粋）：
X軸及びY軸方向への任意の移動が可能でかつ顕体加工試料3の表面のB-B’軸を回転中心とする傾斜回転駆動が可能な可動ベース1と、X軸、Y軸及びZ軸方向への任意の移動が可能でかつ回転駆動が可能な顕体加工試料載置用の顕体加工試料ステージ2と、少なくとも1台のマニピュレータ駆動ユニット7を載置してなり、顕微鏡10の光軸A-A’を回転中心として回転駆動が可能なマニピュレータベース5とから構成され、前記可動ベース1の上には、前記顕体加工試料ステージ2が設置され、更にマニピュレータベース支持体4を介して前記可動ベース1の上に、前記マニピュレータベース5が設置されていることを特徴とする微細作業用マイクロマニピュレーション装置。
IPC (3件)：
G02B 21/32
, B25J 7/00
, G02B 21/00
G02B 21/32
, B25J 7/00
, G02B 21/00
2H052AD02
, 2H052AD07
, 2H052AD17
, 2H052AD18
, 2H052AD22
, 2H052AD31
, 2H052AF02
, 2H052AF19
, 3F060AA00
, 3F060BA10
, 3F060EB06
, 3F060EC07
, 3F060FA07
, 3F060GA00
, 3F060GD11
