特許

J-GLOBAL ID：200903016794770580

電子線、EUV又はX線用レジスト組成物

発明者： 水谷 一良 ,  高橋 表
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-035456
公開番号（公開出願番号）：特開2004-004557
出願日： 2003年02月13日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】感度と解像性に優れ、更には矩形なパターン形状、溶解コントラスト、エッジラフネスをも満足する電子線、EUV又はX線用レジスト組成物を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とする電子線、EUV又はX線用レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A1)ジフェニルヨードニウム塩より高還元電位をもつ、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする電子線、EUV又はX線用レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 531Z ,  H01L21/30 541P

Fターム (18件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17 ,  5F046GA16 ,  5F056DA04 ,  5F056DA07

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ポジ型電子線又はX線レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-252141   出願人：富士写真フイルム株式会社
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-058430   出願人：松下電器産業株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-212946   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-047971   出願人：富士写真フイルム株式会社