特許
J-GLOBAL ID：200903039782041540

ポジ型電子線又はX線レジスト組成物

発明者：
阿出川 豊

阿出川 豊 について

, 
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-252141
公開番号（公開出願番号）：特開2001-075283
出願日： 1999年09月06日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：
【要約】【課題】 高解像力であり、矩形形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかも現像欠陥が少なく、PEB温度依存性が小さいポジ型電子線又はX線レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 電子線又はX線の照射により酸を発生する、電子求引性基を有するオニウム塩、酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(a)電子線又はX線の照射により酸を発生し、カチオン部位の置換基上に少なくとも一つの電子求引性基を有するオニウム塩、及び(b)酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (13件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20
引用特許：
審査官引用 (15件)
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