特許
J-GLOBAL ID：200903065450960675

ポジ型感光性組成物

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

, 
青合 利明

青合 利明 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-212946
公開番号（公開出願番号）：特開2002-023353
出願日： 2000年07月13日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
要約：
【要約】【課題】 遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、感度、解像力、露光マージンも優れたポジ型感光性組成物を提供すること。【解決手段】活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、特定の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物。
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物において、該(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物が少なくとも1つのフッ素原子及び/又は少なくとも1つのフッ素原子を有する基で置換されたベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アントラセンスルホン酸を発生する化合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (9件)：
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/42 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (9件)：
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/42 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (46件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ04 ,  2H025CB43 ,  2H025CB55 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002BC122 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG052 ,  4J002BG071 ,  4J002BH021 ,  4J002CC042 ,  4J002CE001 ,  4J002EB116 ,  4J002EH007 ,  4J002EJ017 ,  4J002EL087 ,  4J002EN108 ,  4J002ER028 ,  4J002EU028 ,  4J002EU048 ,  4J002EU078 ,  4J002EU128 ,  4J002EU138 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EU238 ,  4J002EV046 ,  4J002EV066 ,  4J002EV226 ,  4J002EV246 ,  4J002EV316 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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