回転式基板洗浄装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-152159
公開番号（公開出願番号）：特開平8-321481
出願日： 1995年05月25日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【目的】洗浄具の種類のいかんにかかわらず、洗浄具に付着した汚染物を待機ポット内で良好に除去する。【構成】鉛直方向の軸芯周りで回転する基板の表面を洗浄する洗浄具12を基板上の洗浄位置と基板上から外れた待機位置とにわたって変位させるように構成し、待機位置において洗浄具12を待機ポット28内に挿入し、ノズル29から洗浄具12に洗浄液を供給する。このとき、洗浄具12の種類に応じ、ノズル29の噴出角度を変更して、洗浄具12に供給する洗浄液の到達点Pの上下方向の位置を変更し、洗浄具12に付着している汚染物を良好に洗浄除去する。

請求項（抜粋）：

基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する基板保持手段と、基板表面を洗浄する洗浄具と、前記洗浄具を前記基板上の洗浄位置と前記基板上から外れた待機位置とにわたって変位する洗浄具移動手段と、待機位置の前記洗浄具の周囲を覆う待機ポットと、前記待機ポット内の前記洗浄具に洗浄液を供給するノズルとを備えた回転式基板洗浄装置において、前記ノズルから前記洗浄具に供給する洗浄液の到達点の上下方向の位置を変更する洗浄位置調整手段を備えたことを特徴とする回転式基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B08B 3/02

FI (3件)：

H01L 21/304 341 M , H01L 21/304 341 C , B08B 3/02 B

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平3-052228
特開平4-107824
洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-119566 出願人：東京エレクトロン株式会社

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審査官引用 (2件)

特開平3-052228
特開平4-107824

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