洗浄装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中本菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-119566
公開番号（公開出願番号）：特開平9-029189
出願日： 1996年04月18日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：

【要約】【課題】構造を簡単にして装置の小型化を図り、かつ、スループットの向上及び歩留まりの向上を図る。【解決手段】処理室1内に収容され半導体ウエハWを水平回転可能に保持するスピンチャック3と、半導体ウエハWの表面に接触して半導体ウエハWを洗浄する洗浄ブラシ10とを具備する洗浄装置において、処理室1外に突出するスピンチャック3の駆動軸3aにモータ4を連結固定し、スピンチャック3の外側に筒状のカップ6を配設すると共に、このカップ6の内カップ6bをスピンチャック3及び半導体ウエハWを包囲すべく垂直方向に移動可能に形成する。これにより、半導体ウエハWのスピンチャック3への受渡し時には、スピンチャック3及びモータ4を固定した状態で内カップ6bのみを下降させて行うことができる。

請求項（抜粋）：

処理室内に収容され被処理体を水平回転可能に保持する回転保持手段と、上記被処理体の上面に接触して被処理体を洗浄する洗浄手段とを具備する洗浄装置において、上記処理室外に突出する上記回転保持手段の駆動軸に駆動手段を連結固定し、上記回転保持手段の外側に筒状の容器を配設すると共に、この容器を回転保持手段及び被処理体を包囲すべく垂直方向に移動可能に形成してなることを特徴とする洗浄装置。

IPC (6件)：

B08B 1/04 , B08B 3/02 , B23Q 11/00 , H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , H01L 21/68

FI (7件)：

B08B 1/04 , B08B 3/02 B , B23Q 11/00 Z , H01L 21/304 341 B , H01L 21/304 341 C , H01L 21/68 P , H01L 21/68 A

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭61-181134
物品清浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-050857 出願人：三宝電機株式会社
特開平3-052228

全件表示

前のページに戻る