特許
J-GLOBAL ID：200903016912900370
近接場プローブおよび近接場プローブの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-236668
公開番号（公開出願番号）：特開2002-116131
出願日： 2001年08月03日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：
【要約】【課題】近接場プローブを高い一定品質で量産するための製造方法を提供する。【解決手段】まず、支持部102とプローブ母材120から成る構造体すなわちAFMカンチレバーチップを用意し、そのプローブ母材120の特定の表面を例えばテルルから成る遮光膜130で被覆して、近接場プローブの予備成形品100'を形成する。次に、ガラス基板142とその表面に形成された例えば銀から成る拡散膜144とを備えている拡散反応用の基板140を用意する。近接場プローブの予備成形品100'のプローブ母材120の突出部122の先端124を被覆している遮光膜130の部分を、拡散反応用の基板140の拡散膜144に接触させる。遮光膜130と拡散膜144が接触している間、遮光膜130の拡散反応が進行し、接触部分の遮光膜130が徐々に除去される。
請求項（抜粋）：
近接場顕微鏡および近接場光記録装置に用いられる近接場プローブであり、光学的に透明なプローブ母材と、プローブ母材の特定の表面を被覆する遮光膜と、少なくとも一つの微小な光学的な開口を備えており、遮光膜はカルコゲンまたはカルコゲン化合物の膜であり、微小な光学的な開口は、遮光膜のカルコゲンまたはカルコゲン化合物の拡散反応による、遮光膜の選択的な除去によって形成されている、近接場プローブ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 13/14 B
, G12B 1/00 601 C
