特許
J-GLOBAL ID：200903016600346759
近接場プローブ、及び近接場プローブ製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
鈴江 武彦 (外1名)
, 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-180088
公開番号（公開出願番号）：特開2001-004645
出願日： 1999年06月25日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：
【要約】【課題】光の波長に比べ微小な開口部を精密に得る。【解決手段】近接場顕微鏡または近接場記録再生装置に用いられるプローブを製造する近接場プローブ製造方法であり、電圧印加用の対向電極34と接した電解質溶液32と、導電性遮光皮膜でコートされた透明な材質より成る予備成型品10(プローブ)とを対向するように配置し、電解質溶液32と予備成型品10との間を上下動ステージ40を駆動することにより徐々に近接させ、前電解質溶液32と予備成型品10の先端部分(探針部16)とが接触したときに、予備成型品10と対向電極34との間に電圧源46により電圧を印加することで、予備成型品10の先端部分を電気分解で除去して先端部分に開口部を形成する。
請求項（抜粋）：
近接場顕微鏡または近接場記録再生装置に用いられるプローブにおいて、透明な材質より成るプローブを導電性遮光皮膜でコートし、この皮膜のうちプローブ先端部分を電気分解で除去して開口を形成したことを特徴とする近接場プローブ。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01N 37/00 E
, G01N 37/00 Y
, G11B 7/135 A
5D119AA11
, 5D119JA34
, 5D119NA05
