特許
J-GLOBAL ID：200903016973337571
露光装置及び露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-110906
公開番号（公開出願番号）：特開2003-309053
出願日： 2002年04月12日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：
【要約】【課題】 投影光学系の結像位置及び像面を高精度で連続的に変更調整でき、精度良く露光処理できる露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】 露光装置EXは、露光光で照明されるマスクMと感光基板Pとを同期移動しつつマスクMのパターン像を投影光学系PL1〜PL5を介して感光基板Pに投影露光する走査型露光装置であり、露光光の光路上に、パターンの像面の位置をZ軸方向に調整するとともにパターン像の像面傾斜を調整する像面調整装置10を備えている。
請求項（抜粋）：
露光光で照明されるマスクと感光基板とを同期移動しつつ前記マスクのパターン像を投影光学系を介して前記感光基板に投影露光する露光装置において、前記露光光の光路上に、前記パターンの像面の位置を該像面と直交する方向に調整するとともに前記パターン像の像面傾斜を調整する像面調整装置を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 7/22 H
, H01L 21/30 516 A
, H01L 21/30 518
5F046BA05
, 5F046CB19
, 5F046CB25
, 5F046DA13
, 5F046DB05
, 5F046DC04
, 5F046DC12
