ポリエチレン微多孔膜

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-294095
公開番号（公開出願番号）：特開平11-130900
出願日： 1997年10月27日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：

【要約】【課題】強度発現に必要な膜厚および気孔率を維持し、かつ高いイオン透過性を有したポリエチレン微多孔膜を提供する。【解決手段】屈曲率が0.1〜1.5、気孔率が10%〜80%、平均孔径が0.01μm〜0.3μmであることを特徴とするポリエチレン微多孔膜。

請求項（抜粋）：

屈曲率が1.0〜1.5、気孔率が10%〜80%、平均孔径が0.01μm〜0.3μmであることを特徴とするポリエチレン微多孔膜。

IPC (4件)：

C08J 9/26 102 , B01D 71/26 , C08L 23/06 , H01M 2/16

FI (4件)：

C08J 9/26 102 , B01D 71/26 , C08L 23/06 , H01M 2/16 P

引用特許：

審査官引用 (11件)

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