光走査装置および画像形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石橋佳之夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-077728
公開番号（公開出願番号）：特開2004-286989
出願日： 2003年03月20日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：

【課題】環境温度変化があっても各色画像情報に対応した光ビーム間の相対的な配置関係を維持し、各色に対応した光ビームの副走査間隔を小さくすることができる光走査装置および画像形成装置を得る。【解決手段】複数の光源手段201〜204から射出され副走査方向に離隔された光ビームを一括して偏向し主走査を行う偏向手段213と、走査された光ビームをそれに対応した被走査面に結像させる複数の結像手段218と、これらの手段を保持するハウジング手段とを有する。複数の光源手段は、各射出軸の方向が揃えられそれぞれの射出位置の少なくとも主走査方向の間隔を所定の間隔にして配備され、各光源手段から偏向手段213へ向かう光ビームの光路上にビーム合流手段214〜217が備えられ、ビーム合流手段は、ハウジング手段によって保持されていて光ビームの主走査方向の位置を順次近接させて偏向手段213に入射させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数の光源手段から射出され副走査方向に離隔された各光ビームを一括して偏向し主走査を行う偏向手段と、走査された各光ビームをこれらの光ビームに対応した被走査面に結像させる複数の結像手段と、これらの手段を保持するハウジング手段とを有する光走査装置において、上記複数の光源手段は、それぞれの射出軸の方向が揃えられかつそれぞれの射出位置の少なくとも主走査方向の間隔を所定の間隔にして配備されるとともに、各光源手段から上記偏向手段へ向かう光ビームの光路上にビーム合流手段が備えられ、上記ビーム合流手段は、上記ハウジング手段によって保持されていて光ビームの主走査方向の位置を順次近接させて偏向手段に入射させることを特徴とする光走査装置。

IPC (4件)：

G02B26/10 , B41J2/44 , H04N1/036 , H04N1/113

FI (5件)：

G02B26/10 B , G02B26/10 F , H04N1/036 Z , B41J3/00 D , H04N1/04 104A

Fターム (38件)：

2C362AA07 , 2C362AA10 , 2C362AA43 , 2C362BA04 , 2C362BA50 , 2C362BA52 , 2C362BA54 , 2C362BA68 , 2H045AA02 , 2H045BA22 , 2H045BA34 , 2H045DA02 , 2H045DA04 , 5C051AA02 , 5C051CA07 , 5C051DA02 , 5C051DB02 , 5C051DB22 , 5C051DB24 , 5C051DB30 , 5C051DC04 , 5C051DC07 , 5C051EA01 , 5C051FA01 , 5C072BA02 , 5C072BA13 , 5C072DA02 , 5C072DA04 , 5C072DA21 , 5C072DA23 , 5C072HA02 , 5C072HA09 , 5C072HA13 , 5C072HB08 , 5C072HB11 , 5C072QA14 , 5C072XA01 , 5C072XA05

引用特許：

審査官引用 (4件)

走査光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-110234 出願人：旭光学工業株式会社
マルチビーム光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-178479 出願人：株式会社リコー
光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-340022 出願人：株式会社東芝

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