特許
J-GLOBAL ID：200903017184018719
コンデンサおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-274955
公開番号（公開出願番号）：特開2000-106330
出願日： 1998年09月29日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：
【要約】【課題】 弁金属からなる陽極誘電体酸化被膜と陰極間にセパレータを介在させてポリアニリン及びポリチオフェンを化学重合にて形成した導電性高分子からなるコンデンサの製法で、高容量で特性の優れたコンデンサを容易に得ることを目的とする。【解決手段】 誘電体酸化被膜を形成した陽極弁金属と陰極にセパレータを介在させて捲回または積層したコンデンサにおいて、誘電体酸化被膜上に第一層目として可溶性ポリアニリン層を形成する。これにより、誘電体酸化被膜のエッチングピット深部およびセパレータ内部まで導電性高分子層が隙間なく形成される。さらに第二層目としてポリチオフェンまたはその誘導体からなる導電性高分子層を化学重合によって形成することでコンデンサ素子内部まで均一に電解質層を形成することができる。
請求項（抜粋）：
弁金属からなる誘電体酸化皮膜を形成した陽極と陰極にセパレータを介在させて捲回または積層したコンデンサにおいて、誘電体酸化被膜上に第一層目として可溶性ポリアニリン層が形成され、第二層目としてポリチオフェンまたはその誘導体からなる導電性高分子層が形成されたコンデンサ。
FI (3件)：
H01G 9/02 331 F
, H01G 9/02 331 G
, H01G 9/02 331 H
