特許
J-GLOBAL ID:200903017430275726
半導体発光素子
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
高田 守
, 高橋 英樹
, 大阿久 敦子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-009373
公開番号(公開出願番号):特開2007-235107
出願日: 2007年01月18日
公開日(公表日): 2007年09月13日
要約:
【課題】発光効率が高い半導体発光素子を得る。【解決手段】本発明に係る半導体発光素子は、窒化ガリウム系化合物半導体からなる半導体発光素子であって、基板上に、第1導電型の第1クラッド層と、活性層と、第2導電型のInxAlyGa1-x-yN(0≦x≦1、0≦y≦1)からなる電子障壁層と、第2導電型の第2クラッド層とが順に積層され、前記電子障壁層は前記活性層及び前記第2クラッド層よりもバンドギャップが大きく、前記電子障壁層の厚さが2nm以上7nm以下である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
窒化ガリウム系化合物半導体からなる半導体発光素子であって、
基板上に、第1導電型の第1クラッド層と、活性層と、第2導電型のInxAlyGa1-x-yN(0≦x≦1、0≦y≦1)からなる電子障壁層と、第2導電型の第2クラッド層とが順に積層され、前記電子障壁層は前記活性層及び前記第2クラッド層よりもバンドギャップが大きく、前記電子障壁層の厚さが2nm以上7nm以下であることを特徴とする半導体発光素子。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (14件):
5F173AA08
, 5F173AF25
, 5F173AF36
, 5F173AG12
, 5F173AG17
, 5F173AG21
, 5F173AH22
, 5F173AP06
, 5F173AP32
, 5F173AP33
, 5F173AP82
, 5F173AR23
, 5F173AR25
, 5F173AR75
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (3件)
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回折格子作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-194056
出願人:富士写真フイルム株式会社
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窒化物半導体素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-140760
出願人:日亜化学工業株式会社
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半導体発光素子およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-041171
出願人:ソニー株式会社
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