回折格子作製方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柳田征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-194056
公開番号（公開出願番号）：特開2001-021710
出願日： 1999年07月08日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】極めて微細な周期の回折格子を作製する。【解決手段】母材11上にエッチングにより除去可能な第1レジスト層21と、光照射による照射部分のみまたは非照射部分のみが現像溶媒に可溶となる感光性の第2レジスト層22とをこの順に形成し、露光光Lを受けて回折格子パターンの近接場光27を発生させる手段24により、前記第2レジスト層22にこの近接場光27を照射する。次いでこの第2レジスト層22を現像することにより該第2レジスト層22に回折格子パターンを形成し、このパターンをエッチングマスクとして第1レジスト層21をエッチングすることにより、これらのレジスト層21,22からなる回折格子パターンを形成し、さらにこれらのレジスト層21,22のパターンをエッチングマスクとして母材11をエッチングすることにより、該母材11上に回折格子を形成する。

請求項（抜粋）：

母材上に光照射による照射部分のみまたは非照射部分のみが現像溶媒に可溶となる感光性のレジスト層を形成し、照射光を受けて回折格子パターンの近接場光を発生させる手段により、前記レジスト層にこの近接場光を照射し、このレジスト層を現像することにより該レジスト層に回折格子パターンを形成し、このレジスト層のパターンをエッチングマスクとして前記母材をエッチングすることにより、該母材上に回折格子を形成することを特徴とする回折格子作製方法。

IPC (3件)：

G02B 5/18 , H01L 21/027 , H01S 5/12

FI (4件)：

G02B 5/18 , H01S 5/12 , H01L 21/30 505 , H01L 21/30 573

Fターム (30件)：

2H049AA03 , 2H049AA13 , 2H049AA33 , 2H049AA37 , 2H049AA44 , 2H049AA48 , 2H049AA55 , 2H049AA62 , 5F046BA01 , 5F046BA02 , 5F046CA07 , 5F046CA10 , 5F046CB17 , 5F046LA17 , 5F046LB01 , 5F046NA01 , 5F046NA14 , 5F046NA15 , 5F046NA17 , 5F046NA18 , 5F073AA13 , 5F073AA64 , 5F073AA65 , 5F073AA71 , 5F073AA74 , 5F073CA07 , 5F073CB05 , 5F073CB06 , 5F073DA25 , 5F073DA35

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-188702
露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-322231 出願人：キヤノン株式会社
光露光または転写方法および装置またはそのためのマスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-319781 出願人：株式会社日立製作所

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