投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-242314
公開番号（公開出願番号）：特開平9-063948
出願日： 1995年08月29日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：

【要約】【課題】投影光学系の光学特性の変動量を正確に予測し補正することができる投影露光装置を提供する。【解決手段】露光光で照明されるレチクル2のパターンを被露光基板5上に投影する投影光学系4、この投影により投影光学系に生じる光学特性の変動量を所定の補正係数を含む計算式に基づいて予測する光学特性予測手段18、光学特性予測手段の予測結果に応じて光学特性を補正する光学特性補正手段51、光学特性の変動量を測定する光学特性測定手段50、および光学特性測定手段の測定結果に応じて補正係数を変更する補正係数変更手段17を有する投影露光装置において、補正係数変更手段によって変更される補正係数をレチクル毎のデータとして保存するデータ保存手段16を有し、光学特性予測手段はデータ保存手段に保存されたレチクル毎の補正係数を用いて光学特性の変動量の予測を行う。

請求項（抜粋）：

露光光で照明されるレチクルのパターンを被露光基板上に投影する投影光学系、この投影により前記投影光学系に生じる光学特性の変動量を所定の補正係数を含む計算式に基づいて予測する光学特性予測手段、前記光学特性予測手段の予測結果に応じて前記光学特性を補正する光学特性補正手段、前記光学特性の変動量を測定する光学特性測定手段、および前記光学特性測定手段の測定結果に応じて前記補正係数を変更する補正係数変更手段を有する投影露光装置において、前記補正係数変更手段によって変更される補正係数をレチクル毎のデータとして保存するデータ保存手段を有し、前記光学特性予測手段は前記データ保存手段に保存されたレチクル毎の補正係数を用いて前記光学特性の変動量の予測を行うことを特徴とする投影露光装置。

FI (6件)：

H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 516 B , H01L 21/30 516 C , H01L 21/30 525 A , H01L 21/30 525 N , H01L 21/30 525 R

引用特許：

出願人引用 (5件)

縮小投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-019867 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-130711
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-252528 出願人：株式会社ニコン

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審査官引用 (2件)

縮小投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-019867 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-130711

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