特許
J-GLOBAL ID:200903017670655941

静電チャックの離脱方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 俊夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-324558
公開番号(公開出願番号):特開平10-150099
出願日: 1996年11月20日
公開日(公表日): 1998年06月02日
要約:
【要約】【課題】 半導体ウエハなどの被処理体を静電チャックから離脱させるときに、残留吸着により被処理体に無理な力が加わって破損することを未然に防止すること。【解決手段】 静電チャック3の吸着用電圧の印加を解除した後、リフトピン5により微小突出量だけウエハWを突き上げる。ウエハWはプロセス終了直後は静電チャック3よりも数十度温度が高いので、ウエハWが離脱すれば静電チャック3の表面部の温度は本来の静電チャック3の温度まで降下し、ウエハWが離脱しなければ温度は降下しない。そこで静電チャック3に組み込んだウエハWの温度センサを用いてウエハWの微小量突き上げの後の温度データに基づいてウエハWが離脱しているか残留吸着しているかを判断し、残留吸着していれば受け渡しを中止する。
請求項(抜粋):
静電チャック上に被処理体を静電吸着する工程と、次いで前記静電チャックの吸着用電圧の印加を解除する工程と、その後被処理体が静電チャックに残留吸着しているとしても被処理体が破壊されない程度の力を被処理体に対して静電チャックから離れる方向に加え、このときの被処理体の載置状態に基づいて被処理体が静電チャックに残留吸着しているか離脱しているかを判断する判断工程と、この判断工程で被処理体が離脱していると判断された後、被処理体を静電チャックから受け渡し手段に受け渡す工程と、を含むことを特徴とする静電チャックの離脱方法。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  H02N 13/00
FI (2件):
H01L 21/68 R ,  H02N 13/00 D
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 静電チャック
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-038072   出願人:住友金属工業株式会社
  • プラズマ処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-317939   出願人:株式会社神戸製鋼所
  • 特開平4-162448
全件表示
審査官引用 (4件)
  • 静電チャック
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-038072   出願人:住友金属工業株式会社
  • プラズマ処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-317939   出願人:株式会社神戸製鋼所
  • 特開平4-162448
全件表示

前のページに戻る