特許
J-GLOBAL ID：200903017685398082

金属シロキシドの単一原料混合物

発明者：
ロバート ディー.クラーク

ロバート ディー.クラーク について

, 
アーサー ケネス ホッチバーグ

アーサー ケネス ホッチバーグ について


出願人/特許権者：
エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド

エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド について


代理人 (4件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  西山 雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-302644
公開番号（公開出願番号）：特開2004-131485
出願日： 2003年08月27日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：
【課題】金属シロキシドの化学気相堆積による薄膜形成の簡略化。【解決手段】M-O-SiまたはM-N-Si結合リンケージを介して結合されている式:M(L1)X(L2)V-X[実験式中、Mは原子価が2乃至6の金属、L1が陰イオン配位子、L2が安定な薄膜金属ケイ酸塩の生成に好適なシロキシドまたはシリルアミド配位子を表わし、vが金属の原子価に等しく、0<x<vである。]で表わされる前駆物質混合物及び、金属シロキシドおよび金属シリルアミド前駆物質混合物の製造。錯体は式:(R)mM-(O-SiR1R2R3)n および (R)mM-[N-(SiR1R2R3)y(R4)2-y]n {式中、Mは原子価が2乃至6の金属、mおよびnは正の整数、(m+n)は金属Mの原子価、R、R1、R2、R3およびR4は有機配位子を表す。}【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
実験式: M(L1)X(L2)V-X
IPC (3件)：
C07F7/00 ,  C07F7/08 ,  C07F7/10
FI (3件)：
C07F7/00 Z ,  C07F7/08 Z ,  C07F7/10 Z
Fターム (24件)：
4H049VN01 ,  4H049VN07 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ35 ,  4H049VQ78 ,  4H049VR40 ,  4H049VR50 ,  4H049VU24 ,  4H049VU25 ,  4K030AA11 ,  4K030BA10 ,  4K030BA29 ,  4K030BA48 ,  4K030CA04 ,  4K030FA10 ,  4K030LA15 ,  5F058BA01 ,  5F058BC03 ,  5F058BC04 ,  5F058BD05 ,  5F058BD06 ,  5F058BF02 ,  5F058BF27 ,  5F058BJ01
引用特許：
審査官引用 (3件)
引用文献：
審査官引用 (16件)
  • Preparation and characterization of some alumosiloxanes as single-source MOCVD precursors for al
  • J.Am.Chem.Soc.,(1996),118(3),p.591-611
  • Chemical Abstracts,vol.136,abs.no.410608
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM