特許

J-GLOBAL ID：200903017840845830

インプリント用モールドおよびインプリント用モールド製造方法

発明者： 福上 典仁 ,  加藤 裕
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-177943
公開番号（公開出願番号）：特開2008-006639
出願日： 2006年06月28日
公開日（公表日）： 2008年01月17日
要約：

【課題】転写により得られるゾルゲル材料のパターン形状が所望する形状のパターンで得ることが可能となるインプリント用モールドを提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、パターンをゾルゲル材料へ転写するためのインプリント用モールド製造方法であって、ゾルゲル材料の硬化収縮による変形量を測定する工程と、前記測定した変形量より、モールドから転写される材料のパターン形状のシミュレーションを行う工程と、前記シミュレーションより算出されたモールドのパターン形状を形成する工程とを行うことを特徴とするインプリント用モールド製造方法である。【選択図】 図9

請求項（抜粋）：

パターンをゾルゲル材料へ転写するためのインプリント用モールド製造方法であって、 ゾルゲル材料の硬化収縮による変形量を測定する工程と、 前記測定した変形量より、モールドから転写される材料のパターン形状のシミュレーションを行う工程と、 前記シミュレーションより算出されたモールドのパターン形状を形成する工程と を行うことを特徴とするインプリント用モールド製造方法。

IPC (4件)：

B29C 59/02 ,  H01L 21/027 ,  B29C 33/38 ,  G03F 7/20

FI (4件)：

B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D ,  B29C33/38 ,  G03F7/20 521

Fターム (31件)：

4F202AC06 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH36 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ06 ,  4F202AM23 ,  4F202AM34 ,  4F202AM35 ,  4F202AR12 ,  4F202AR13 ,  4F202AR14 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CD03 ,  4F202CD24 ,  4F202CD28 ,  4F202CN01 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AH79 ,  4F209AJ08 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (2件)

• パタ-ン形成方法及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-370629   出願人：富士通株式会社
• 凹凸表面を有する物品の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-023698   出願人：日本板硝子株式会社

審査官引用 (3件)

• 特開平1-131031
  
• 転写方法及び転写装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-397108   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立インダストリイズ
• 回折光学素子の製造方法および回折光学素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-343914   出願人：キヤノン株式会社