特許

J-GLOBAL ID：200903017859306794

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク

発明者： 山嵜 司 ,  松尾 正 ,  福原 信彦 ,  原口 崇 ,  金山 浩一郎
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-021193
公開番号（公開出願番号）：特開2002-229177
出願日： 2001年01月30日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：

【要約】【課題】マスクパターンの転写精度を向上させ、また、検査を容易にするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供すること。【解決手段】透明基板3上に、遮光性膜2、透明性膜1が順次に形成されたハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクであって、露光波長における遮光性膜の屈折率が透明性膜の屈折率よりも大きいこと。

請求項（抜粋）：

透明基板上に、遮光性膜、及び透明性膜が順次に形成されたハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクであって、ハーフトーン型位相シフトマスクの露光波長における該遮光性膜の屈折率が該透明性膜の屈折率よりも大きいことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (5件)：

2H095BB03 ,  2H097CA12 ,  2H097CA13 ,  2H097CA14 ,  2H097LA10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 露光用マスクとパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-108700   出願人：株式会社東芝
• 位相シフトフォトマスクブランクス及び位相シフトフォトマスク並びに半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-243103   出願人：アルバック成膜株式会社, 三菱電機株式会社
• ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-274429   出願人：凸版印刷株式会社