特許
J-GLOBAL ID：200903017881335641

酸感応性化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物

発明者：
中野 達也

中野 達也 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


代理人 (2件)： 鍬田 充生 ,  阪中 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-320062
公開番号（公開出願番号）：特開2009-114453
出願日： 2008年12月16日
公開日（公表日）： 2009年05月28日
要約：
【課題】耐エッチング液性が高く、光照射により可溶化できるフォトレジスト用樹脂組成物により微細なパターンを形成する。【解決手段】フォトレジスト用樹脂組成物は、下記式で表される酸感応性化合物の単位(アダマンタン骨格など)を有する重合体と、光酸発生剤とで構成されている。(式中、R1はアルキル基又はシクロアルキル基、R2は、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基、R3は水素原子又はメチル基、R4は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、酸素含有基、アミノ基、又はN-置換アミノ基、環Zはアダマンタン環、nは1以上の整数を示す。式(1)において、R1又はR2は隣接する炭素原子とともに脂環式炭化水素環を形成してもよい。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記式(1)又は(2)
IPC (3件)：
C08F 220/12 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
C08F220/12 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (39件)：
2H025AA01 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025FA17 ,  4J100AB02Q ,  4J100AB03Q ,  4J100AB04Q ,  4J100AB07Q ,  4J100AG04Q ,  4J100AG06Q ,  4J100AJ08Q ,  4J100AJ09Q ,  4J100AK32Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA56Q ,  4J100BB01P ,  4J100BB03P ,  4J100BB07P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC54Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100FA08 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (1件)

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