基板処理装置及びこれに用いる基板搬送装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-337961
公開番号（公開出願番号）：特開平9-162263
出願日： 1995年11月30日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：

【要約】【課題】 2つの処理部のうちの少なくとも一方の処理部の基板支持高さを調節することにより基板の入替え搬送に要する高さ調節を効率よく行なって、装置のスループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板冷却部CPの支持ピン22は、第2のエアシリンダ32を駆動することによって基板Wを冷却処理する基板処理位置H1 から第1の待機位置H2 に上昇される。この状態において、第3のエアシリンダ33を駆動することにより第1の待機位置H2 から、基板搬送部の2つのアームの上下方向の配設間隔である所定間隔の2倍だけ隔てた第2の待機位置H3 に上昇される。これらの第1の待機位置H2 と第2の待機位置H3 に支持ピン22の高さを調節することによりアームの位置関係が入替えられたときのギャップを相殺する。

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理を施す2つの処理部の間に配設され、前記2つの処理部に載置されたそれぞれの基板を入替え可能な基板搬送部を備えている基板処理装置において、前記基板搬送部は、それぞれ基板を支持するための2つのアーム(上側アームと下側アーム)が上下方向に所定間隔を隔てて配設され、前記2つの処理部に対して前記両アームを伸長させるとともに両アームを上昇(または下降)させて収縮させた後、前記2つのアームの位置関係を入替えて両アームを伸長させるとともに下降(または上昇)させて収縮させる一連の動作を行なうことにより基板を前記2つの処理部の間で入替え可能に構成され、前記2つの処理部のうち少なくとも一方の処理部は、基板を処理する際の基板処理位置と、前記基板処理位置より上に位置する第1の待機位置と、前記第1の待機位置より上に位置する第2の待機位置とにわたって基板を支持する高さを調節可能に構成されているとともに、前記基板搬送部の両アームの伸長/収縮動作および上昇/下降動作を制御するとともに、前記処理部の基板支持高さを、基板処理位置と第2の待機位置とにわたって調節する制御部を備えていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , B65G 49/07

FI (3件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/68 N , B65G 49/07 C

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板フォトレジスト処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-252488 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平4-065148
半導体ウエハ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-296091 出願人：富士電機株式会社

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