薄膜構造体の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉村暁秀 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-126680
公開番号（公開出願番号）：特開2000-317900
出願日： 1999年05月07日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
要約：

【要約】【課題】高い生産性と高い再現性とを有し、成形後の形状安定性に優れた薄膜構造体の製造方法を提供する。【解決手段】過冷却液体域を有する非晶質材料からなる薄膜を所定に基板上に形成する。そして、この薄膜を前記過冷却液体域に加熱し、機械的な外力、静電的な外力などによって湾曲させ、薄膜構造体を形成する。そして、前記過冷却液体域から室温まで冷却することによって前記薄膜の変形を終了させる。

請求項（抜粋）：

過冷却液体域を有する非晶質材料からなる薄膜を立体的に変形させてなることを特徴とする、薄膜構造体。

IPC (6件)：

B81C 1/00 , C03B 23/00 , C22C 45/00 , C23C 30/00 , C23C 14/35 , G01R 1/073

FI (6件)：

B81C 1/00 , C03B 23/00 , C22C 45/00 , C23C 30/00 Z , C23C 14/35 Z , G01R 1/073 F

Fターム (40件)：

2G011AA03 , 2G011AA10 , 2G011AA16 , 2G011AA21 , 2G011AB06 , 2G011AF07 , 4K029AA06 , 4K029BA06 , 4K029BA07 , 4K029BA09 , 4K029BA12 , 4K029BA21 , 4K029BA25 , 4K029BA41 , 4K029BA43 , 4K029BA52 , 4K029BB10 , 4K029BC00 , 4K029BD03 , 4K029CA01 , 4K029CA05 , 4K029GA05 , 4K029HA07 , 4K044AA11 , 4K044BA02 , 4K044BA06 , 4K044BA08 , 4K044BA14 , 4K044BA18 , 4K044BB01 , 4K044BB10 , 4K044BB17 , 4K044BC05 , 4K044BC07 , 4K044CA13 , 4K044CA14 , 4K044CA48 , 4K044CA62 , 4K044CA64 , 4K044CA67

引用特許：

審査官引用 (4件)

非晶質合金製の梁構造体とその作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-283624 出願人：オリンパス光学工業株式会社
ウォームキャリア赤外線検出素子及び該素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-042973 出願人：本田技研工業株式会社
研磨装置及び研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-069055 出願人：カヤバ工業株式会社

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