特許
J-GLOBAL ID：200903018069248502

導電性パターン形成体の製造方法

発明者：
小林 弘典

小林 弘典 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 山下 昭彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-249604
公開番号（公開出願番号）：特開2003-209339
出願日： 2002年08月28日
公開日（公表日）： 2003年07月25日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 本発明は、高精細なパターンを簡便な工程で形成し、さらに廃液処理問題のない導電性パターンの製造方法を提供する。【解決手段】 本発明は、基材と、上記基材上に形成され、光触媒およびバインダを有し、エネルギー照射部分の濡れ性が液体の接触角の低下する方向に変化する光触媒含有層を含むパターン形成体用基板を調製する工程と、上記光触媒含有層上にパターン状にエネルギーを照射することにより、上記光触媒含有層上に撥液性領域と親液性領域とからなる濡れ性パターンを形成する工程と、上記濡れ性パターンが形成された光触媒含有層表面に、金属コロイド溶液を塗布することにより、親液性領域にのみ金属コロイド溶液を付着させる工程と、上記親液性領域に付着した金属コロイド溶液を固化させて導電性パターンを形成する工程を有する。
請求項（抜粋）：
基材と、前記基材上に形成され、光触媒およびバインダを有し、エネルギー照射部分の濡れ性が液体の接触角の低下する方向に変化する光触媒含有層とからなるパターン形成体用基板を調製するパターン形成体用基板調製工程と、前記光触媒含有層上にパターン状にエネルギーを照射することにより、前記光触媒含有層上に撥液性領域と親液性領域とからなる濡れ性パターンを形成する濡れ性パターン形成工程と、前記濡れ性パターンが形成された光触媒含有層表面に、金属コロイド溶液を塗布することにより、親液性領域にのみ金属コロイド溶液を付着させる金属コロイド溶液塗布工程と、前記濡れ性パターンの親液性領域に付着した金属コロイド溶液を固化させて導電性パターンとする導電性パターン形成工程とを有することを特徴とする導電性パターン形成体の製造方法。
IPC (5件)：
H05K 3/10 ,  C23C 18/12 ,  G03F 7/20 501 ,  H05K 3/12 610 ,  H05K 3/12
FI (5件)：
H05K 3/10 C ,  C23C 18/12 ,  G03F 7/20 501 ,  H05K 3/12 610 C ,  H05K 3/12 610 H
Fターム (27件)：
2H097FA05 ,  2H097FA06 ,  2H097FA10 ,  2H097LA09 ,  2H097LA20 ,  4K022AA01 ,  4K022AA42 ,  4K022BA15 ,  4K022BA22 ,  4K022BA33 ,  4K022CA03 ,  4K022CA22 ,  4K022DA06 ,  5E343AA02 ,  5E343BB23 ,  5E343BB25 ,  5E343BB60 ,  5E343BB72 ,  5E343CC22 ,  5E343CC32 ,  5E343CC54 ,  5E343CC56 ,  5E343CC76 ,  5E343DD02 ,  5E343ER35 ,  5E343ER47 ,  5E343GG08
引用特許：
審査官引用 (7件)
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