特許
J-GLOBAL ID：200903018168722836

光磁気ディスク及びその製造方法

発明者：
吉田 美喜男

吉田 美喜男 について

, 
池田 悦郎

池田 悦郎 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-154400
公開番号（公開出願番号）：特開平9-007243
出願日： 1995年06月21日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：
【要約】【目的】 浮上型磁気ヘッドにより情報を記録しても、保護膜の表面の突起部と磁気ヘッドの衝突が発生せず、サーボエラーや磁気ヘッドの損傷が発生しないようにする。【構成】 基板上に記録層及び保護膜を形成する際、保護膜の表面の突起高さを使用する浮上型磁気ヘッドの浮上距離よりも小さくする。なお、製造方法としては、基板上に1層以上の機能膜を真空薄膜形成手段により形成して記録層を形成した後、基板の記録層表面に気体を吹き付ける、或いは上記基板上に3回以上ろ過した樹脂を供給する、またはフィルターユニット内で高速振り切りを行って樹脂を塗布して保護膜を形成する、さらには保護膜形成後、保護膜の表面の突起高さを光の反射により検査し、突起高さが所定の値以下のものを分別するといった手法のうちの1種を行う方法が挙げられ、これらを全部行っても良い。
請求項（抜粋）：
基板上に記録層及び保護膜が形成されてなり、少なくとも情報の記録時に光磁気ディスク上に所定の浮上距離を保って浮上する磁気ヘッドにより情報の記録が行われる光磁気ディスクにおいて、光磁気ディスクの保護膜の表面の突起高さが磁気ヘッドの浮上距離よりも小さいことを特徴とする光磁気ディスク。
IPC (3件)：
G11B 11/10 521 ,  G11B 11/10 541 ,  G11B 11/10
FI (3件)：
G11B 11/10 521 D ,  G11B 11/10 541 F ,  G11B 11/10 541 G
引用特許：
審査官引用 (3件)

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