特許
J-GLOBAL ID：200903023559954948

リソグラフィ補正システム、リソグラフィ補正方法及び半導体装置の製造方法

発明者：
中野 亜矢子

中野 亜矢子 について

, 
佐藤 隆

佐藤 隆 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (7件)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  川又 澄雄 ,  中村 友之 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-033376
公開番号（公開出願番号）：特開2005-228791
出願日： 2004年02月10日
公開日（公表日）： 2005年08月25日
要約：
【課題】 段差を有する基板上のパターンと直交するレジストパターンを形成する場合に、設計寸法により近いレジストパターンを形成可能なリソグラフィ補正システムを提供する。【解決手段】 一定の方向に延伸する段差を有する基板上のパターンとレジストパターンとの直交部に残留する、レジストパターンの裾引き量と、レジストパターンの線幅に対する複数のレジストパターンの間隔の比との関係を、電気ベクトルの振動方向が基板上のパターン16と垂直方向及び平行方向にそれぞれ揃えられた照明光のそれぞれで露光された場合について取得する裾引き量取得部323と、線幅に対する間隔の比に応じて、裾引き量を抑制する照明光の偏光方向を決定する偏光方向決定部324とを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
一定の方向に延伸する段差を有する基板上のパターンとレジストパターンの直交部に残留する、前記レジストパターンの裾引き量と、前記レジストパターンの線幅に対する前記レジストパターンの間隔の比との関係を、電気ベクトルの振動方向が前記基板上のパターンと平行方向及び垂直方向にそれぞれ揃えられた照明光でそれぞれ露光された場合について取得する裾引き量取得部と、 前記線幅に対する前記間隔の比に応じて、前記裾引き量を抑制する前記照明光の偏光方向を決定する偏光方向決定部 とを備えることを特徴とするリソグラフィ補正システム。
IPC (1件)：
H01L21/027
FI (3件)：
H01L21/30 515D ,  H01L21/30 514Z ,  H01L21/30 516Z
Fターム (7件)：
5F046AA26 ,  5F046AA28 ,  5F046CB05 ,  5F046CB15 ,  5F046DA12 ,  5F046DB04 ,  5F046DD03
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 投影露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-023744   出願人：三菱電機株式会社
審査官引用 (5件)
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