特許
J-GLOBAL ID:200903018274160847

周期性パターンのムラ検査方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 高矢 諭 ,  松山 圭佑 ,  牧野 剛博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-286822
公開番号(公開出願番号):特開2004-125471
出願日: 2002年09月30日
公開日(公表日): 2004年04月22日
要約:
【課題】ジャストフォーカスで対象物を画像入力して、モアレ縞の影響を受けることなく周期性パターンを高精度で検査できるようにする。【解決手段】幅の狭いパターンが、幅方向に繰り返し形成されている対象物Wを検査する際、ラインセンサカメラ12の画素列方向と前記パターンの形成方向とを直交させ、ジャストフォーカスに設定し、撮像範囲内の各パターンを、全幅に亘って1画素の視野に収め、且つ、1画素の視野に、2つのパターンが部分的に含まれる場合と、一方のみが含まれる場合とで、輝度値が等しくならない光学条件下で、アスペクト比が1を超えるスキャンレートに設定して対象画像を撮像し、該画像を対象物を除いて撮像した光源画像で除算して透過率画像とし、該画像から各パターンの全幅の輝度値に当る画素のパターン画像を作成し、該画像を基に検査する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
幅の狭いパターンが、パターン間を介して幅方向を形成方向にして繰り返し形成されている対象物を、撮像手段により反射照明下又は透過照明下で撮像し、得られる画像を画像処理して前記パターンを検査する周期性パターンのムラ検査方法において、 前記撮像手段としてラインセンサカメラを使用し、該撮像手段を、その画素列方向と前記対象物の形成方向とを直交させて配置し、且つ前記撮像手段の光学系レンズをジャストフォーカスに設定し、 1画素の視野に1つのパターンを収めることができ、且つ、1画素の視野に、隣り合う2つのパターンが部分的に含まれる場合と、いずれか一方のみが含まれる場合とで、1画素の輝度値が等しくならない光学条件の下で、 前記撮像手段と対象物とを前記形成方向に沿って相対的に移動させながら、該撮像手段によりアスペクト比が1を超えるスキャンレートに設定して撮像して、オーバサンプリングされた対象画像を取得すると共に、 該対象画像から直接的又は間接的に、前記対象物に形成されている各パターンの全幅の輝度値に対応する画素からなるパターン画像を作成し、 該パターン画像を被検査画像として前記パターンを検査することを特徴とする周期性パターンのムラ検査方法。
IPC (4件):
G01N21/956 ,  G01B11/24 ,  G01M11/00 ,  H01J9/42
FI (5件):
G01N21/956 Z ,  G01M11/00 T ,  H01J9/42 A ,  G01B11/24 F ,  G01B11/24 K
Fターム (44件):
2F065AA56 ,  2F065AA58 ,  2F065BB02 ,  2F065BB15 ,  2F065BB27 ,  2F065CC25 ,  2F065DD04 ,  2F065DD12 ,  2F065FF04 ,  2F065GG02 ,  2F065GG03 ,  2F065GG08 ,  2F065HH15 ,  2F065HH16 ,  2F065HH17 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ25 ,  2F065KK01 ,  2F065MM03 ,  2F065PP15 ,  2F065PP22 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ28 ,  2F065SS13 ,  2G051AA73 ,  2G051AA90 ,  2G051AB02 ,  2G051BA20 ,  2G051BB05 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051DA01 ,  2G051DA06 ,  2G051EA11 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051ED07 ,  2G051ED14 ,  2G051FA10 ,  2G086EE12 ,  5C012AA02 ,  5C012AA09 ,  5C012BE03
引用特許:
審査官引用 (8件)
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