特許

J-GLOBAL ID：200903018332066899

基板処理装置

発明者： 真田 雅和 ,  春本 将彦 ,  玉田 修
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-291405
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100601
出願日： 2001年09月25日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】 基板に対してスリットスキャン現像を行い、その後現像停止液を供給した後、当該基板を十分に洗浄すること。【解決手段】 現像液供給ノズル21が基板Wの主面一端側から他端側にかけて移動しつつ、該基板Wに現像液を供給する。その後、所定時間経過後に、スリット状の吐出口を有する現像停止液供給ノズル31が、基板Wの主面の上方を前記現像液供給ノズル21と同方向、同速度で通過しつつ、現像停止液としてリンス液を供給する。その後、洗浄液供給ノズル41が基板Wの主面上方を通過移動しつつ、基板Wの主面に洗浄液としてリンス液を供給する。

請求項（抜粋）：

基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された基板主面の一端側から他端側にかけて現像液を供給する現像液供給手段と、前記基板の主面に現像液が供給された後、その基板主面の一端側から他端側にかけて現像停止液を供給する現像停止液供給手段と、前記基板の主面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記基板に現像停止液が供給された後、前記洗浄液供給手段から前記基板の主面に洗浄液を供給させる制御手段と、を備えた基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B08B 3/02 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 643

FI (4件)：

B08B 3/02 B ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/30 569 C

Fターム (14件)：

2H096AA25 ,  2H096GA30 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201BB22 ,  3B201BB32 ,  3B201BB44 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CC01 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA06

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 基板の現像処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-188819   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 現像装置および現像方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-107671   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-088781   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開昭63-305517
  
• 特開昭63-305517
  
• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-271492   出願人：大日本スクリーン製造株式会社