位置検出装置及び位置検出方法、露光装置、デバイス製造方法並びに基板

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：大塚康徳 , 高柳司郎 , 大塚康弘 , 木村秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-160299
公開番号（公開出願番号）：特開2004-006527
出願日： 2002年05月31日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】複数のアライメントマークの中からターゲットアライメントマークを識別する。【解決手段】アライメントスコープの視野MF内に複数のアライメントマークL1,M1,N1,O1,P1が存在する。これらの中から、各アライメントマークの4隅に補助パターン領域に補助パターンが存在するか否かに基づいて、ターゲットアライメントマークを識別する。【選択図】図2A

請求項（抜粋）：

物体上のマークの位置を検出する位置検出装置であって、前記物体は、位置検出のためのマーク又はパターンの形成が許容されている領域に、複数の位置検出用マークと、補助パターンとが形成されており、前記位置検出装置は、補助パターンを利用して複数の位置検出用マークの中から目標とする位置検出用マークを識別する識別部を備えることを特徴とする位置検出装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G01B11/00 , G03F9/00

FI (3件)：

H01L21/30 525W , G01B11/00 H , G03F9/00 H

Fターム (16件)：

2F065AA03 , 2F065BB27 , 2F065CC19 , 2F065FF04 , 2F065JJ05 , 2F065QQ03 , 2F065QQ24 , 2F065QQ31 , 5F046EA10 , 5F046EA30 , 5F046EB07 , 5F046FA10 , 5F046FA17 , 5F046FB10 , 5F046FC04 , 5F046FC06

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭63-262835
特開昭63-262835
微細加工方法及びこの加工方法に用いる微細加工用フォトマスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-015894 出願人：株式会社テラテック

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