基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：井上俊夫 , 水野洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-307226
公開番号（公開出願番号）：特開2004-146449
出願日： 2002年10月22日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：

【課題】基板例えばウエハに対して複数の処理ユニットにて順次処理されることにより所定の処理が行われる基板処理装置において、搬送効率を高め、高スループットを確保すること。【解決手段】上下方向に伸びる搬送領域Zの周囲に複数のタワーT1〜T8を設け、これら複数のタワーT1〜T8の各々を3段の処理ゾーンに分割し、これら処理ゾーンの各々に設けられる、互いに積層された複数の処理ユニットに対して専用の基板搬送手段によりウエハの受け渡しを行うと共に、前記処理ゾーンを、ウエハに対して行われる処理の順番に下段側から上段側に向かって、または上段側から下段側に向かって配列することにより、ウエハの搬送を効率よく行うことができ、高いスループットを確保できる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板に対して複数の処理ユニットにて順次処理されることにより所定の処理が行われる基板処理装置において、基板を搬送するために上下方向に伸び、複数段の搬送ゾーンに分割された搬送領域と、この搬送領域の周囲に設けられた複数のタワーと、これら複数のタワーの各々において、前記複数段の搬送ゾーンに対応して夫々割り当てられた複数段の処理ゾーンと、これら複数段の処理ゾーンの各々に設けられ、互いに積層された複数の処理ユニットと、前記複数段の搬送ゾーンの夫々に設けられ、その搬送ゾーンに対応する処理ゾーンに設けられた各処理ユニットに対して基板の受け渡しを行うと共に、互いに独立して駆動される複数の基板搬送手段と、少なくとも一つのタワーに設けられ、前記所定の処理が行われる前の基板が搬入される基板搬入部と、少なくとも一つのタワーに設けられ、前記所定の処理が終了した基板が搬出される基板搬出部と、を備え、前記複数段の処理ゾーンは、基板に対して行われる処理の順番に下段側から上段側に向かって、または上段側から下段側に向かって配列されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L21/02 , B65G1/04 , B65G49/00 , B65G49/07 , H01L21/31 , H01L21/68

FI (6件)：

H01L21/02 Z , B65G1/04 563 , B65G49/00 A , B65G49/07 D , H01L21/31 A , H01L21/68 A

Fターム (40件)：

3F022AA08 , 3F022CC02 , 3F022EE05 , 3F022FF01 , 3F022KK01 , 3F022MM11 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA04 , 5F031GA32 , 5F031GA35 , 5F031GA47 , 5F031GA49 , 5F031GA50 , 5F031HA48 , 5F031HA58 , 5F031HA59 , 5F031LA14 , 5F031MA02 , 5F031MA04 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA30 , 5F031NA04 , 5F031NA05 , 5F031NA09 , 5F031NA16 , 5F045AB39 , 5F045AF01 , 5F045DP02 , 5F045DQ10 , 5F045EB19 , 5F045EN04

引用特許：

審査官引用 (4件)

ウェハトランスファ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-136374 出願人：ソニー株式会社
収納カセット
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-261742 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
オーブン又は炉内で加工物を垂直方向に移送するためのステップエレベータ
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-157599 出願人：ゼネラルシグナルコーポレイション

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