形状測定装置、露光装置およびコンピュータ

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：大塚康徳 , 高柳司郎 , 大塚康弘 , 木村秀二 , 下山治 , 永川行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-140863
公開番号（公開出願番号）：特開2008-233063
出願日： 2007年05月28日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：

【課題】高コントラストな干渉信号を信号処理により得る。【解決手段】被測定面の形状を測定する形状測定装置200は、被測定面からの測定光と参照光とによって形成される干渉光を前記測定光または前記参照光の光路長を変更しながら光電変換素子で検知する干渉計10と、前記光電変換素子で検知された第1干渉信号をフーリエ変換して位相分布および振幅分布を求め、該振幅分布を整形した後、該位相分布および該整形された振幅分布を逆フーリエ変換して第2干渉信号を求め、該第2干渉信号に基づいて前記被測定面の形状を決定するコンピュータ100とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被測定面の形状を測定する形状測定装置であって、被測定面からの測定光と参照面からの参照光とによって形成される干渉光を光電変換素子で検知する干渉計と、前記光電変換素子で検知された第1干渉信号をフーリエ変換して位相分布および振幅分布を求め、該振幅分布を整形した後、該位相分布および該整形された振幅分布を逆フーリエ変換して第2干渉信号を求め、該第2干渉信号に基づいて前記被測定面の形状を決定するコンピュータと、を備えることを特徴とする形状測定装置。

IPC (4件)：

G01B 11/24 , G01B 9/02 , H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (5件)：

G01B11/24 D , G01B9/02 , H01L21/30 502V , H01L21/30 514E , G03F7/20 521

Fターム (35件)：

2F064AA09 , 2F064CC02 , 2F064EE01 , 2F064EE10 , 2F064FF03 , 2F064FF07 , 2F064GG12 , 2F064GG44 , 2F064GG52 , 2F064GG64 , 2F064HH03 , 2F064HH08 , 2F064HH09 , 2F064JJ04 , 2F064JJ15 , 2F065AA53 , 2F065CC19 , 2F065DD09 , 2F065FF52 , 2F065GG02 , 2F065GG07 , 2F065GG24 , 2F065JJ03 , 2F065JJ19 , 2F065JJ26 , 2F065LL04 , 2F065LL12 , 2F065LL65 , 2F065MM16 , 2F065MM26 , 2F065MM28 , 2F065QQ16 , 2F065QQ31 , 5F046AA17 , 5F046DA30

引用特許：

出願人引用 (1件)

米国特許第5398113号明細書

審査官引用 (6件)

特開平4-236306
特開昭62-259006
干渉式膜厚計
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-122020 出願人：株式会社東京精密

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