リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびそれにより製造したデバイス

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 岩本行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-382666
公開番号（公開出願番号）：特開2005-184016
出願日： 2004年12月16日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：

【課題】品目支持体の支持突起の数を減少させ、制御可能な方法で品目を水平にするリソグラフィ投影装置を提供する。【解決手段】装置は、放射線のビームを提供する照明システムと、放射線のビームのビーム路に配置すべき品目を支持する品目支持体と、品目を品目支持体に締め付けるクランプとを含む。クランプには、品目を局所的に曲げるために局所的曲げモーメントを提供するよう、局所的に調節した圧力を生成するために、品目の周囲に配置した複数のゾーンを設ける。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置で、放射線のビームを提供する照明システムと、前記放射線ビームのビーム路に配置すべき品目を支持する品目支持体と、前記品目を前記品目支持体に締め付けるクランプとを有し、局所的曲げモーメントを提供して前記品目を局所的に曲げるよう、局所的に調節した圧力を生成するために、前記クランプに前記品目支持体の周囲に配置した複数のゾーンを設けるものであるリソグラフィ投影装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/68

FI (4件)：

H01L21/30 503C , G03F7/20 501 , H01L21/68 N , H01L21/30 503D

Fターム (22件)：

2H097DA11 , 2H097DB11 , 2H097LA10 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031HA08 , 5F031HA14 , 5F031HA18 , 5F031HA53 , 5F031JA09 , 5F031JA17 , 5F031JA30 , 5F031JA32 , 5F031KA01 , 5F031KA15 , 5F031LA10 , 5F031MA27 , 5F031PA14 , 5F046CC08 , 5F046CC09 , 5F046CC10 , 5F046CC11

引用特許：

審査官引用 (8件)

マスク保持装置、マスク保持方法、および露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-296509 出願人：株式会社ニコン
基板吸着保持方法、基板吸着保持装置および該基板吸着保持装置を用いた露光装置ならびにデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-182463 出願人：キヤノン株式会社
改良基板ホルダ付きリソグラフィ-的投影装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-086533 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ

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