パターン欠陥検査方法およびその装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小川勝男 , 田中恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-020896
公開番号（公開出願番号）：特開2004-233163
出願日： 2003年01月29日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：

【課題】本発明は、試料および光学系にダメージを与えることの少ない、微細な回路パターンを高い分解能で検出し、欠陥を検出する方法及び装置を提供することにある。【解決手段】レシピを設定するレシピ設定手段3300と、紫外レーザ光を出射するレーザ光源3と該レーザ光源から出射した紫外レーザ光の光量を前記レシピ設定手段で設定されたレシピに応じて調整する光量調整手段4、11と該光量調整手段で光量が調整された紫外レーザ光の試料への照明範囲を形成する照明範囲形成手段14と可干渉性低減手段17と可干渉性が低減された紫外光束を試料上に照射する照射光学系20とを備えた照明光学系と、試料からの反射光を集光する集光光学系20と該集光光学系で集光された反射光の回折光を制御する回折光制御光学系19と該回折光制御光学系を通して得られる試料からの反射光像を撮像して画像信号21、28を検出する検出器とを備えた検出光学系とを備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置及びその方法である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

検査レシピ及び/又はレビューレシピを設定するレシピ設定手段と、紫外レーザ光を出射するレーザ光源と該レーザ光源から出射した紫外レーザ光の光量を前記レシピ設定手段で設定された検査レシピ及び/又はレビューレシピに応じて調整する光量調整手段と該光量調整手段で光量が調整された紫外レーザ光の試料への照明範囲を形成する照明範囲形成手段と該照明範囲形成手段で形成された照明範囲の紫外レーザ光の可干渉性を低減する可干渉性低減手段と該可干渉性低減により可干渉性が低減された紫外光束を試料上に照射する照射光学系とを備えた照明光学系と、試料からの反射光を集光する集光光学系と該集光光学系で集光された反射光の回折光を制御する回折光制御光学系と該回折光制御光学系を通して得られる試料からの反射光像を撮像して画像信号を検出する検出器とを備えた検出光学系とを備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (4件)：

G01N21/956 , G01B11/30 , G06T1/00 , H01L21/66

FI (5件)：

G01N21/956 A , G01B11/30 A , G06T1/00 305A , H01L21/66 C , H01L21/66 J

Fターム (70件)：

2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065DD03 , 2F065DD16 , 2F065FF01 , 2F065GG04 , 2F065JJ02 , 2F065JJ25 , 2F065LL09 , 2F065LL13 , 2F065LL30 , 2F065LL36 , 2F065PP12 , 2F065QQ03 , 2F065QQ11 , 2F065QQ34 , 2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AA73 , 2G051AB02 , 2G051BA05 , 2G051BA10 , 2G051BB07 , 2G051BB09 , 2G051BC03 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CB06 , 2G051CC07 , 2G051CC09 , 2G051DA07 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EA16 , 2G051EA23 , 2G051EC03 , 2G051ED08 , 2G051ED11 , 2G051ED21 , 4M106AA01 , 4M106AA09 , 4M106BA07 , 4M106CA38 , 4M106DB04 , 4M106DB08 , 4M106DB09 , 4M106DB19 , 4M106DE18 , 4M106DJ18 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CC01 , 5B057CE02 , 5B057CE06 , 5B057CE11 , 5B057CH09 , 5B057CH11 , 5B057CH18 , 5B057DA03 , 5B057DA08 , 5B057DA12 , 5B057DB02 , 5B057DC05 , 5B057DC22 , 5B057DC33 , 5B057DC36

引用特許：

審査官引用 (9件)

検査装置及び検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-345467 出願人：ソニー株式会社
パターン欠陥検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-231382 出願人：株式会社日立製作所
半導体ウエハの自動検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-133152 出願人：株式会社ニコン

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