特許
J-GLOBAL ID：200903018802750392

プローブ保持装置、試料の取得装置、試料加工装置、試料加工方法、および試料評価方法

発明者：
元井 泰子

元井 泰子 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-012284
公開番号（公開出願番号）：特開2004-227842
出願日： 2003年01月21日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：
【課題】試料から必要な微小片を取得することのできる好適なプローブ保持装置装置を提供すること。【解決手段】プローブを取り付け可能なプローブ保持部と、前記プローブの温度を調整するための温度調整手段とを備え、且つ試料を取得するために用いられることを特徴とするプローブ保持装置である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
プローブを取り付け可能なプローブ保持部と、前記プローブの温度を調整するための温度調整手段とを備え、且つ試料を取得するために用いられることを特徴とするプローブ保持装置。
IPC (3件)：
H01J37/20 ,  G01N1/28 ,  H01J37/30
FI (5件)：
H01J37/20 E ,  H01J37/30 Z ,  G01N1/28 F ,  G01N1/28 G ,  G01N1/28 K
Fターム (26件)：
2G052AA13 ,  2G052AA18 ,  2G052AA28 ,  2G052AA33 ,  2G052AD34 ,  2G052AD37 ,  2G052DA05 ,  2G052EB08 ,  2G052EB13 ,  2G052EC14 ,  2G052EC16 ,  2G052EC22 ,  2G052FD06 ,  2G052GA34 ,  2G052GA35 ,  2G052HA17 ,  2G052HC03 ,  2G052HC17 ,  2G052HC24 ,  2G052JA09 ,  5C001AA01 ,  5C001BB01 ,  5C001BB02 ,  5C001CC07 ,  5C034AA02 ,  5C034AB04
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • 荷電粒子線装置および試料作製装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-340387   出願人：株式会社日立製作所
  • 特開昭59-221955
  • メ ス
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-177868   出願人：ライカミクロズュステムスヌスロッホゲーエムベーハー
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