特許
J-GLOBAL ID:200903018910678380
表面欠陥検査方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田渕 経雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-237958
公開番号(公開出願番号):特開2001-059717
出願日: 1999年08月25日
公開日(公表日): 2001年03月06日
要約:
【要約】【課題】 欠陥の検出が可能な表面欠陥検査方法の提供。【解決手段】 明暗パターン1bを有した光源1を検査表面4に写し出してカメラ2を介してコンピュータ3に画像取込みする工程と、取り込んだ画像の濃度ヒストグラムを作成する工程と、画像の濃度ヒストグラムにより欠陥6を検出する工程と、を有する表面欠陥検査方法。
請求項(抜粋):
明暗パターンを有した光源を検査表面に写し出してカメラを介してコンピュータに画像取込みする工程と、取り込んだ画像の濃度ヒストグラムを作成する工程と、前記画像の濃度ヒストグラムにより欠陥を抽出する工程と、を有する表面欠陥検査方法。
IPC (2件):
FI (3件):
G01B 11/30 A
, G01N 21/88 J
, G01N 21/88 Z
Fターム (40件):
2F065AA49
, 2F065BB05
, 2F065CC11
, 2F065CC31
, 2F065FF42
, 2F065GG02
, 2F065GG15
, 2F065HH06
, 2F065HH07
, 2F065HH12
, 2F065JJ03
, 2F065JJ08
, 2F065JJ26
, 2F065LL41
, 2F065LL49
, 2F065QQ00
, 2F065QQ03
, 2F065QQ06
, 2F065QQ08
, 2F065QQ21
, 2F065QQ24
, 2F065QQ28
, 2F065QQ29
, 2F065QQ32
, 2F065QQ34
, 2F065QQ42
, 2F065QQ43
, 2F065RR05
, 2F065SS02
, 2F065SS13
, 2G051AA89
, 2G051AB07
, 2G051AB12
, 2G051BB07
, 2G051CA03
, 2G051CA04
, 2G051EA11
, 2G051EA16
, 2G051EB01
, 2G051EC02
引用特許:
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