特許
J-GLOBAL ID:200903018910678380

表面欠陥検査方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田渕 経雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-237958
公開番号(公開出願番号):特開2001-059717
出願日: 1999年08月25日
公開日(公表日): 2001年03月06日
要約:
【要約】【課題】 欠陥の検出が可能な表面欠陥検査方法の提供。【解決手段】 明暗パターン1bを有した光源1を検査表面4に写し出してカメラ2を介してコンピュータ3に画像取込みする工程と、取り込んだ画像の濃度ヒストグラムを作成する工程と、画像の濃度ヒストグラムにより欠陥6を検出する工程と、を有する表面欠陥検査方法。
請求項(抜粋):
明暗パターンを有した光源を検査表面に写し出してカメラを介してコンピュータに画像取込みする工程と、取り込んだ画像の濃度ヒストグラムを作成する工程と、前記画像の濃度ヒストグラムにより欠陥を抽出する工程と、を有する表面欠陥検査方法。
IPC (2件):
G01B 11/30 ,  G01N 21/88
FI (3件):
G01B 11/30 A ,  G01N 21/88 J ,  G01N 21/88 Z
Fターム (40件):
2F065AA49 ,  2F065BB05 ,  2F065CC11 ,  2F065CC31 ,  2F065FF42 ,  2F065GG02 ,  2F065GG15 ,  2F065HH06 ,  2F065HH07 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL41 ,  2F065LL49 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ06 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ34 ,  2F065QQ42 ,  2F065QQ43 ,  2F065RR05 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13 ,  2G051AA89 ,  2G051AB07 ,  2G051AB12 ,  2G051BB07 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051EA11 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051EC02
引用特許:
審査官引用 (3件)

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