特許
J-GLOBAL ID:200903018928952519
加熱装置の制御方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (3件):
樺澤 襄
, 樺澤 聡
, 山田 哲也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-269820
公開番号(公開出願番号):特開2007-078307
出願日: 2005年09月16日
公開日(公表日): 2007年03月29日
要約:
【課題】限られた消費電力で加熱装置を効果的に立上げることができる加熱装置の制御方法を提供する。 【解決手段】(ステップ5)各ゾーンの温度偏差に、各ゾーンごとに設定した固有の熱容量係数K1を掛ける演算により、加熱優先度を決定する。(ステップ6)隣接ゾーンとの隣接温度偏差に、隣接関係により設定した隣接係数K2を掛ける演算により、補助的に、ゾーンの加熱優先度を決定する。(ステップ7)加熱優先度の最大のゾーンから最小のゾーンまでの順番を決定し、加熱優先度の最大のゾーンと最小のゾーンとを含むように複数のゾーンを組み合わせて1組のグループを作成するとともに、残ったゾーンの中から同様に複数のゾーンを組み合わせてグループを順次作成する。(ステップ8)これらの各々のグループ内で、ヒータの消費電力を制限する。 【選択図】図1
請求項(抜粋):
ワークを搬送するコンベヤに沿って配置された炉体内の複数のゾーンにそれぞれ設けられたヒータを立上げる加熱装置の制御方法において、
加熱優先度の大きなゾーンと小さなゾーンとを含む複数のゾーンを組み合わせて複数のグループを作成し、
各々のグループ内でのヒータの消費電力を制限する
ことを特徴とする加熱装置の制御方法。
IPC (9件):
F27B 9/40
, G05D 23/19
, B23K 1/008
, B23K 3/04
, B23K 31/02
, F27B 9/36
, F27D 19/00
, H05B 3/00
, G05D 23/24
FI (11件):
F27B9/40
, G05D23/19 J
, B23K1/008 C
, B23K3/04 Y
, B23K31/02 310F
, F27B9/36
, F27D19/00 A
, H05B3/00 320Z
, H05B3/00 350
, H05B3/00 310E
, G05D23/24 N
Fターム (41件):
3K058AA01
, 3K058AA25
, 3K058AA27
, 3K058AA44
, 3K058AA88
, 3K058BA19
, 3K058CA12
, 3K058CA16
, 3K058CB26
, 3K058CB27
, 3K058GA06
, 4K050AA01
, 4K050AA04
, 4K050BA16
, 4K050BA17
, 4K050CD05
, 4K050CD06
, 4K050EA05
, 4K050EA07
, 4K056AA09
, 4K056AA12
, 4K056BB06
, 4K056CA18
, 4K056FA04
, 5E319AA03
, 5E319BB05
, 5E319CC36
, 5E319CD35
, 5E319GG15
, 5E319GG20
, 5H323AA05
, 5H323BB20
, 5H323CA08
, 5H323CB02
, 5H323DA03
, 5H323EE01
, 5H323EE18
, 5H323FF01
, 5H323JJ02
, 5H323MM02
, 5H323MM09
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (3件)
-
加熱炉およびその運転開始方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-082915
出願人:株式会社タムラ製作所, 株式会社タムラエフエーシステム
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加熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-166152
出願人:株式会社タムラ製作所, 株式会社タムラエフエーシステム
-
基板熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-364848
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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