特許
J-GLOBAL ID：200903019028140329
被処理流体の変調電磁場処理装置と方法
発明者：
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
,
代理人 (2件)：
松永 孝義
, 飯塚 向日子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-064738
公開番号（公開出願番号）：特開2005-288436
出願日： 2005年03月09日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】異なるタイプの被処理流体であっても、それぞれ異なる方式で被処理流体が流れる配管や貯留槽内の壁面のスケール防止及び腐食防止等に対する効果的な変調電磁場処理を可能にすること。【解決手段】被処理流体を照射するためのコイル部2と、該コイル部2に20Hz〜1MHzの帯域で周波数が時間的に変化する交流電流を流す還元(-)型変調電磁場発生器3と、前記コイル部2に20Hz〜1MHzの帯域で周波数が時間的に変化する交流電流を流す酸化(+)型変調電磁場発生器6と、前記2つの変調電磁場発生器3、6と前記コイル部2との間に前記2つの変調電磁場発生器3、6のいずれかを作動させるための切替器7を備えた変調電磁場処理装置を用いて異なるタイプの被処理流体であっても、それぞれ異なる方式で効果的な変調電磁場処理を効果的に行う。【選択図】 図13
請求項（抜粋）：
被処理流体照射用のコイル部と、該コイル部に20Hz〜1MHzの帯域で周波数が時間的に変化する交流電流を流す酸化(+)型変調電磁場発生器とを備えたことを特徴とする変調電磁場処理装置。
IPC (4件)：
C02F1/48
, C23F11/173
, C23F11/18
, C23F15/00
C02F1/48 A
, C02F1/48 B
, C23F11/173
, C23F11/18 102
, C23F15/00
4D061DA08
, 4D061DB03
, 4D061DB05
, 4D061DC04
, 4D061DC15
, 4D061EA19
, 4D061EC01
, 4D061EC11
, 4D061ED20
, 4K062AA03
, 4K062AA10
, 4K062BA08
, 4K062BA20
, 4K062BB25
, 4K062BC01
, 4K062FA04
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示
前のページに戻る
