特許
J-GLOBAL ID：200903019206649621
化学的機械研磨システムのための可撓膜を有する支持ヘッド
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-345668
公開番号（公開出願番号）：特開平10-180627
出願日： 1997年11月10日
公開日（公表日）： 1998年07月07日
要約：
【要約】【課題】 新規な化学的機械研磨装置用の支持ヘッドを提供すること。【解決手段】 支持ヘッド100はハウジング102、ベース104、負荷機構108、ジンバル機構106、および基板バッキングアセンブリ112を含む。基板バッキングアセンブリは、ベースの下に配置される支持構造体114、この支持構造体をベースに連結する実質的に水平な環状フレクシャ116、および支持構造体に連結される可撓膜118を含む。可撓膜は基板用の取付け面274を持ち、ベースの直ぐ下に延びてチャンバ290を画成する。
請求項（抜粋）：
ベースと、フレクシャによって前記ベースに連結される支持構造体と、基板用の取付け面を有する可撓膜とを備え、前記可撓膜は前記支持構造体に連結されると共に前記支持構造体の下に延びてチャンバを画成する、化学的機械研磨装置用の支持ヘッド。
IPC (2件)：
B24B 37/04
, H01L 21/304 321
B24B 37/04 E
, H01L 21/304 321 H
