特許
J-GLOBAL ID：200903019223042013

基板の塗布装置及び基板の塗布方法

発明者：
小林 真二

小林 真二 について

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北野 高広

北野 高広 について

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森川 祐晃

森川 祐晃 について

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竹下 和宏

竹下 和宏 について

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川淵 義行

川淵 義行 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-076139
公開番号（公開出願番号）：特開2002-353132
出願日： 2002年03月19日
公開日（公表日）： 2002年12月06日
要約：
【要約】【課題】 いわゆる一筆書きの要領でウェハにレジスト液を塗布する場合において,ウェハ上のレジスト液の溶剤の蒸発を抑制しつつ,当該レジスト液の平坦性を確保する。【解決手段】 レジスト液の塗布処理が行われる外容器内に,ウェハW上を覆う蓋75,76を設ける。蓋75,76間には,ウェハWの進行方向であるX方向に対して垂直方向に水平移動可能なレジスト液の吐出ノズル85を設ける。蓋75の吐出ノズル85側を支持部材77で支持し,蓋75のX方向正方向側を支持部材78で支持する。支持部材77を昇降駆動部81によって昇降可能にする。塗布時に支持部材77を所定距離上昇させて,蓋75を傾斜させる。吐出ノズル85側の蓋75とウェハWとの間隙が広くなり,レジスト塗布直後のウェハWがX方向に移動した際にレジスト膜の表面に働く剪断応力が低減される。
請求項（抜粋）：
基板に塗布液を塗布する塗布装置であって,前記基板上を所定方向に往復移動して,当該基板に塗布液を吐出する塗布液吐出部と,前記基板を保持して,前記所定方向と直角方向をなす一方向に水平移動可能な保持部と,平面から見て基板が前記塗布液吐出部よりも前記一方向側に移動した際に,当該基板の上面を覆う蓋とを有し,前記蓋の下面は,前記塗布液吐出部側が高くなるように傾斜していることを特徴とする,基板の塗布装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  B05C 5/00 101 ,  B05D 1/26 ,  B05D 7/00 ,  G03F 7/16 501
FI (5件)：
B05C 5/00 101 ,  B05D 1/26 Z ,  B05D 7/00 H ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/30 564 Z
Fターム (27件)：
2H025AA18 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025EA04 ,  4D075AC06 ,  4D075AC08 ,  4D075AC88 ,  4D075AC96 ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F041AA02 ,  4F041AA06 ,  4F041AB01 ,  4F041BA22 ,  4F041BA34 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046JA02 ,  5F046JA20 ,  5F046JA24 ,  5F046JA27
引用特許：
審査官引用 (4件)
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