特許
J-GLOBAL ID：200903019309094687
反応性スパッタリング用ターゲット材
発明者：
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小倉 亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-255386
公開番号（公開出願番号）：特開2001-073126
出願日： 1999年09月09日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：
【要約】【目的】 膜寿命が長く、スパッタリング条件を不安定化させない反応性スパッタリング用マグネシウムターゲット材を得る。【構成】 純度99.9重量%以上のマグネシウムビレットの押出によって作られ、マグネシウム酸化物,マグネシウム炭酸化物,マグネシウム水和物の1種又は2種以上を含む表面変質層が5nm以下の層厚に抑えられたターゲット材である。不活性又は真空雰囲気で押出,切断,封入を実施することにより表面変質層の生成・成長を抑制する。大気雰囲気中で押出しする場合には、不活性又は真空雰囲気に維持された皮剥き機に押出材を送り込んで表面変質層を剥ぎ取った後、押出材を所定長さに切断する。
請求項（抜粋）：
純度99.9重量%以上のマグネシウムビレットの押出によって作られ、マグネシウム酸化物,マグネシウム炭酸化物,マグネシウム水和物の1種又は2種以上を含む表面変質層が5nm以下の層厚に抑えられている反応性スパッタリング用ターゲット材。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/34 A
, H01L 21/31 D
4K029AA01
, 4K029AA24
, 4K029BA43
, 4K029BB02
, 4K029CA06
, 4K029DC05
, 4K029DC07
, 4K029DC13
, 5F045AA19
, 5F045AB31
, 5F045AC11
, 5F045AC16
